特許
J-GLOBAL ID：201703015606420825

ディスク回転式膜ろ過装置を使用した溶媒置換方法、電気伝導度低減方法、およびpH操作方法

発明者：
大森 一樹

大森 一樹 について

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保坂 正康

保坂 正康 について

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西 陽一郎

西 陽一郎 について

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小薬 剛

小薬 剛 について

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末永 広儀

末永 広儀 について


出願人/特許権者：
三菱化工機株式会社

三菱化工機株式会社 について


代理人 (3件)： 特許業務法人磯野国際特許商標事務所 ,  磯野 道造 ,  多田 悦夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-203219
公開番号（公開出願番号）：特開2015-066495
特許番号：特許第6097190号
出願日： 2013年09月30日
公開日（公表日）： 2015年04月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 回転軸(4)に固定された複数のディスク(6)を回転させ、外周面にろ過膜を有する前記ディスク(6)の表面に付着する微粒子のソリッド(A)を剥離しながらろ過するディスク回転式膜ろ過装置(10)を使用し、 微粒子のソリッド(A)と第1溶媒(B)が混合された混合液のスラリー(C)において、 前記第1溶媒(B)を新たな第2溶媒(D)に置き換える溶媒置換方法は、 混合液のスラリー(C)を前記ディスク(6)の外周面のろ過膜から内部に浸透させ、ろ過して第1溶媒(B)をろ過室(3)外に排出し、微粒子のソリッド(A)の濃度を連続ろ過処理して高める濃縮工程と、 前記新たな第2溶媒(D)を供給して希釈し、第1溶媒(B)をろ過室(3)外に排出し、新たな第2溶媒(D)に置換する溶媒置換工程と、 前記溶媒置換工程で得られた前記第1溶媒(B)、前記第2溶媒(D)、および前記ソリッド(A)を含む溶液から前記第1溶媒(B)を乾燥させる乾燥工程と を含むことを特徴とするディスク回転式膜ろ過装置(10)を使用した溶媒置換方法。
IPC (2件)：
B01D 63/16 ( 200 6.01) ,  B01D 33/21 ( 200 6.01)
FI (2件)：
B01D 63/16 ,  B01D 33/26
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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