真空蒸着によって薄膜を堆積させる装置のための噴射システム

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：中里浩一 , 川崎仁 , 三嶋景治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-536318
特許番号：特許第6170927号
出願日： 2012年10月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】真空蒸着チャンバに配置することが意図された、真空蒸着によって薄膜を堆積するデバイスのための噴射システムであって、該噴射システムは、蒸着固体材料を収容するためのコンテナモジュール(4)と、前記固体材料を蒸発させるように構成されたコンテナ加熱手段と、前記コンテナモジュール(4)からの前記蒸着固体材料を受け入れるように、前記コンテナモジュール(4)に接続する内部導管と、各々が前記蒸着固体材料を前記真空蒸着チャンバ内に拡散するための前記内部導管と前記装置の外部との間の少なくとも1つの連通チャネルを含む複数のノズル(3)とを含む少なくとも1つの噴射装置(1)と、を備え、前記噴射装置(1)は、長手方向(5)に沿って互いに機械的に直列に結合された複数の噴射モジュール(2a、2b、2c、2d、2e)を含み、各噴射モジュールは、適合するねじ山(7)を含み、これによって、前記複数の噴射モジュールは、互いに機械的に直列にねじ留めされており、前記複数の噴射モジュール(2a、2b、2c、2d、2e)はそれぞれ、前記内部導管を介して、1つの、あるいは最多で2つの隣接する噴射モジュールに直列に連通するようになっており、前記コンテナモジュール(4)は、他の適合するねじ山を含み、これによって、前記噴射装置の第1端部において、前記複数の噴射モジュールの第1の噴射モジュール(2a)に機械的にねじ留めされるようになっており、前記第1の噴射モジュールは、前記内部導管を介して、前記コンテナモジュール(4)に連通しており、そして、各噴射モジュール(2a、2b、2c、2d、2e)は、複数の噴射ノズル(3)を備えており、前記噴射装置の該噴射ノズルは、連続する噴射ノズルの間が一定の間隔となるように配置され、長手方向(5)に平行な軸線に沿って、前記噴射ノズル(3)が空間的に均一に分布され、そして、前記噴射装置(1)は、前記噴射モジュール(2a、2b、2c、2d、2e)の前記噴射ノズル(3)を、前記噴射装置(1)の長手方向(5)に平行な軸線に沿って位置合わせするために、真空蒸着チャンバに対する前記噴射モジュールの結合気密性を維持しながら、前記長手方向(5)についての前記噴射モジュール(2a、2b、2c、2d、2e)の方向を調節する手段を含むことを特徴とする噴射システム。

IPC (1件)：

C23C 14/24 ( 200 6.01)

FI (1件)：

C23C 14/24 A

引用特許：

出願人引用 (5件)

蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-400238 出願人：アプライドフィルムスゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフト
CVDチャンバへ液体を供給する装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-340823 出願人：ジョイントインダストリアルプロセッサーズフォ-エレクトロニクス
基板処理装置及び半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-204968 出願人：株式会社日立国際電気

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審査官引用 (5件)

蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-400238 出願人：アプライドフィルムスゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフト
CVDチャンバへ液体を供給する装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-340823 出願人：ジョイントインダストリアルプロセッサーズフォ-エレクトロニクス
基板処理装置及び半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-204968 出願人：株式会社日立国際電気

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