特許
J-GLOBAL ID：201703018996164130

パターン作成方法

発明者：
三上 晃司

三上 晃司 について

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荒井 禎

荒井 禎 について

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石井 弘之

石井 弘之 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-131117
公開番号（公開出願番号）：特開2013-254165
特許番号：特許第6108693号
出願日： 2012年06月08日
公開日（公表日）： 2013年12月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 マスクのパターンを作成する際に用いるセルのライブラリのセルのパターンをコンピュータを用いて作成するパターン作成方法であって、 複数種類の前記セルのパターンのデータを取得する取得工程と、 前記セルのパターンが照明され基板に前記セルのパターンの像が投影されて前記基板が露光されるときの露光条件のパラメータ値と、前記セルのパターンのパラメータ値と、を設定する設定工程と、 設定された前記露光条件のパラメータ値と前記セルのパターンのパラメータ値とを用いて、光学計算用の1つの計算領域において、該取得した前記複数種類のセル同士が光学的な近接効果を及ぼさない距離に離して前記複数種類のセルを並べて配置して、当該設定された露光条件における前記複数種類のセルのパターンの光学像を前記計算領域で計算して、計算された前記複数種類のセルのパターンの光学像の評価値を求める計算工程と、 設定した前記露光条件のパラメータ値と、前記セルのパターンのパラメータ値と、を変更する変更工程と、 変更後のパラメータ値を用いて前記光学像を計算して、計算された前記光学像の前記評価値を求める前記計算工程と、前記変更工程と、を繰り返す工程と、 前記繰り返し工程において求められた前記評価値のうち所定の評価基準を満たす場合の前記セルのパターンのパラメータ値をもつパターンを、前記マスクのパターンを作成するための複数種類のセルのパターンとして決定する決定工程と、 決定された前記複数種類のセルのパターンをセルのライブラリに記憶する記憶工程と、を有することを特徴とするパターン作成方法。
IPC (1件)：
G03F 1/36 ( 201 2.01)
FI (1件)：
G03F 1/36
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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