特許
J-GLOBAL ID：201703020888128068
レジスト付きフォトマスクブランクスの製造方法、および、フォトマスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
藤枡 裕実
, 深町 圭子
, 伊藤 英生
, 後藤 直樹
, 伊藤 裕介
, 立石 英之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-272480
公開番号（公開出願番号）：特開2014-119496
特許番号：特許第6089667号
出願日： 2012年12月13日
公開日（公表日）： 2014年06月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】フォトマスクの製造に用いられるレジスト付きフォトマスクブランクスの製造方法であって、
フォトマスクブランクスを準備する工程と、
前記フォトマスクブランクスの主面上に、酸発生剤を含む化学増幅型レジストのレジスト膜を形成する工程と、
前記レジスト膜の表面に、酸素に加えて、窒素、ヘリウム、フッ素、水素、またはアルゴンの少なくともいずれか一種を含む混合ガスを用いたプラズマ処理を施す工程と、
を順に備え、
前記プラズマ処理を施す工程が、誘導結合型プラズマ方式のフォトマスク用ドライエッチャーを用いて真空領域で行うことを特徴とするレジスト付きフォトマスクブランクスの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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