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J-GLOBAL ID：201802223977211942   整理番号：18A1669527

Si添加DLC薄膜への窒素添加の効果

Effects of nitrogen doping on the properties of Si-doped DLC films

著者 (10件)： 中村和樹 (弘前大 大学院理工学研究科) ,  大橋遼 (弘前大 大学院理工学研究科) ,  横山大 (東北大 電通研) ,  田島圭一郎 (東北大 電通研) ,  遠藤則史 (東北大 電通研) ,  末光眞希 (東北大 電通研) ,  遠田義晴 (弘前大 大学院理工学研究科) ,  小林康之 (弘前大 大学院理工学研究科) ,  鈴木裕史 (弘前大 大学院理工学研究科) ,  中澤日出樹 (弘前大 大学院理工学研究科)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 118  号： 179(CPM2018 8-19)  ページ： 1-6  発行年： 2018年08月02日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 希釈ガスにH₂を用いたプラズマ化学気相成長法により作製したSi添加DLC(Si-DLC)薄膜の化学結合状態,電気的・光学的・機械的特性への窒素(N)添加効果について調べた。SiおよびNを共添加したDLC(Si-N-DLC)薄膜は窒素添加DLC(N-DLC)薄膜と比べて光学バンドギャップは大きかった。またSi-N-DLC薄膜の光学バンドギャップはN含有量の増加に伴い増加するのに対して,N-DLCの光学バンドギャップは減少した。また,Si-N-DLC/p型Siのヘテロ接合のI-V特性は整流性を示さなかったが,真空中ポストアニール後良好な整流特性を示した。(著者抄録)

シソーラス用語： *DLC膜 ,  *ドーピング ,  電気的性質 ,  光学的性質 ,  機械的性質 ,  添加物効果 ,  光学ギャップ ,  電流電圧特性 ,  ケイ素 ,  プラズマCVD ,  *窒素ドーピング ,  性質
準シソーラス用語： *DLC薄膜 ,  プラズマ化学気相堆積 ,  光学バンドギャップ ,  *窒素添加

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

引用文献 (7件)：

• M. Umeno and S. Adhikary, Diamond-like carbon films by microwave surface-wave plasma CVD aimed for the application of photovoltaic solar cells, Diamond Relat. Mater., vol.14, no.11-12, pp.1973-1979, 2005.
• M. Tsuchiya, K. Murakami, K. Magara, K. Nakamura, H. Ohashi, K. Tokuda, T. Takami, H. Ogasawara, Y. Enta, Y. Suzuki, S. Ando, and H. Nakazawa, Structural and electrical properties and current-voltage characteristics of nitrogen-doped diamond-like carbon films on Si substrates by plasma-enhanced chemical vapor deposition, Jpn. J. Appl. Phys, vol.55, pp.065502-1-6, 2016.
• S. Kumar, N. Dwivedi, C.M.S. Rauthan, and O.S. Panwar, Properties of nitrogen diluted hydrogenated amorphous carbon (n-type a-C:H) films and their realization in n-type a-C:H/p-type crystalline silicon heterojunction diodes, Vacuum, vol.84, no.7, pp.882-889, 2010.
• A. Bendavid, P.J. Martin, C. Conte, E.W. Preston, A.J. Haq, F.S.M. Ismail, and R.K. Singh, The mechanical and biocompatibility properties of DLC-Si films prepared by pulsed DC plasma activated chemical vapor deposition, Diamond Relat. Mater., vol.16, no.6, pp.1616-1622, 2007.
• A.C. Ferrari and J. Robertson, Interpretation of Raman spectra of disordered and amorphous carbon, Phys. Rev. B, vol.61, no.20, pp.14095-14107, 2000.

タイトルに関連する用語 (3件)： Si ,  DLC薄膜 ,  窒素添加