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J-GLOBAL ID：201802260754789933   整理番号：18A1599204

電子機器を支える高分子 誘導自己組織化の実現に向けて

著者 (2件)： 吉元健治 (京大 学際融合教育研究推進セ) ,  吉元健治 (京大 大学院工学研究科)
資料名： 高分子  (Polymers)
巻： 67  号： 9  ページ： 523-525  発行年： 2018年09月01日 
JST資料番号： F0168A  ISSN： 0454-1138  CODEN： KOBUA3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電子機器のさらに小型化・高性能化を進めるためには,近い将来,最小ハーフピッチが10nm以下の半導体集積回路を量産する新技術が必要となる。その候補の一つとして,ブロック共重合体のミクロ相分離を利用した誘導自己組織化器(DSA)が注目されている。DSAとは何か?また,DSAの最適化には不可欠なシミュレーションについて概説する。(著者抄録)

シソーラス用語： *自己組織化 ,  電子装置 ,  *小型化 ,  *大量生産 ,  *半導体集積回路 ,  ミクロ相分離 ,  *ジブロック共重合体 ,  分子構造 ,  ミクロ相分離構造 ,  *改変
準シソーラス用語： 電子機器 ,  高性能化

分類 (2件)： 半導体集積回路  (NC03162T) ,  高分子化学一般  (CG01000B)

引用文献 (24件)：

• ′′International Roadmap for Devices and Systems 2017 Ed. Lithography′′, IRDS eds., IEEE (2017) https://irds.ieee.org
• ′′Microlithography: Science and Technology, 2nd Ed.′′, B. W. Smith and K. Suzuki eds., CRC Press, New York, USA (2007)
• ′′半導体微細パターニング~限界を超えるポスト光リソグラフィ技術~′′, 岡崎信次, NTS, 東京 (2017)
• ′′Directed Self-assembly of Block Copolymers for Nano-manufacturing′′, R. Gronheid and P. F. Nealey eds., Woodhead Publishing, Cambridge, UK (2015)
• ′′ブロック共重合体の自己組織化技術の基礎と応用′′, 竹中幹人,長谷川博一, シーエムシー出版, 東京 (2013)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子機器 ,  高分子 ,  誘導 ,  自己組織化