文献
J-GLOBAL ID:201802279106890173   整理番号:18A1212231

高温AlNバッファを持つc面サファイア上に成長させた窒素極性(0001)GaN【JST・京大機械翻訳】

Nitrogen-Polar (000 1 ) GaN Grown on c-Plane Sapphire with a High-Temperature AlN Buffer
著者 (3件):
資料名:
巻: 10  号:ページ: 252  発行年: 2017年 
JST資料番号: U7237A  ISSN: 1996-1944  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: スイス (CHE)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
有機金属化学蒸着により薄いAlNバッファ層を用いて,c面サファイア上に成長する窒素極性(N極性)GaNエピ層を実証した。GaNエピ層の極性,結晶品質および表面形態に及ぼすAlNバッファ層の影響を調べ,AlNバッファ層の成長温度がGaNエピ層の成長に重要な役割を果たすことを見出した。AlNバッファの低い成長温度は,ガリウム極性GaNをもたらす。窒化過程も行った。AlNバッファ層に対する高い成長温度は,純粋なN極性,高い結晶品質,およびGaNエピ層に対する滑らかな表面形態を達成するために必要である。Copyright 2018 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体薄膜 
引用文献 (23件):

前のページに戻る