特許
J-GLOBAL ID：201803001735894520
ガラス基板の再生処理方法、再生ガラス基板の製造方法及びフォトマスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-538440
特許番号：特許第6256344号
出願日： 2013年09月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 少なくとも一方の面に金属薄膜でパターンが形成されたフォトマスク用ガラス基板の再生処理方法において、
前記ガラス基板に形成された金属薄膜をエッチング液により溶解除去した後に、呼気像検査で前記パターンが現れなくなるまで湿式濡れ性均一化処理を行うこと、
を特徴とするフォトマスク用ガラス基板の再生処理方法。
IPC (3件)：
G03F 1/68 ( 201 2.01)
, G03F 1/84 ( 201 2.01)
, C03C 23/00 ( 200 6.01)
G03F 1/68
, G03F 1/84
, C03C 23/00 A
出願人引用 (3件)
審査官引用 (9件)
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