特許
J-GLOBAL ID：201803007949336131
リソグラフィパターニングプロセスおよび同プロセス内で使用するレジスト
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-517551
特許番号：特許第6236000号
出願日： 2012年05月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 5nm以上11nm未満の波長を有するEUV光のパターン付きビームでレジスト材料のレジスト膜を照射する方法であって、
前記レジスト材料は、ケイ素含有ポリマーおよび/またはTa、W、Re、Os、Ir、Ni、CuおよびZnからなる群から選択される少なくとも1つの元素を含む少なくとも1つの酸化物を含み、
前記ケイ素含有ポリマーは、以下の化学式を有するモノマーを含み、
上記式において、RはC1〜C20のアルキルシリル基または以下の化学式を有する基であり、
上記式において、R1、R2およびR3の基は、それぞれ、C1〜C20アルキルシリル基である、
方法。
IPC (5件)：
G03F 7/075 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, C08F 30/08 ( 200 6.01)
G03F 7/075 511
, H01L 21/30 531 E
, G03F 7/004
, G03F 7/039 601
, C08F 30/08
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (17件)
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