特許
J-GLOBAL ID：201803010299983596
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
松阪 正弘
, 田中 勉
, 井田 正道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-006405
公開番号（公開出願番号）：特開2018-117032
出願日： 2017年01月18日
公開日（公表日）： 2018年07月26日
要約：
【課題】処理液中のガスの溶存濃度を設定値に精度よく調整する。【解決手段】第1および第2供給液がそれぞれ流れる第1および第2供給液ライン412,422に第1および第2濃度測定部415,425が設けられる。第2供給液におけるガスの溶存濃度は、第1供給液よりも低い。第1および第2供給液ラインでは、濃度測定部よりも上流側の位置に第1および第2分岐ライン51,52の一端がそれぞれ接続される。第1および第2分岐ラインの他端は、混合部57に接続され、第1および第2供給液を混合して処理液が生成される。処理液中のガスの溶存濃度が設定値となるように、第1および第2濃度測定部の測定値に基づいて第1および第2分岐ラインの流量調整部58が制御される。これにより、濃度測定部に起因するパーティクル等を含む供給液が、基板に供給される処理液に含まれることを防止しつつ、処理液中のガスの溶存濃度が設定値に精度よく調整される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
処理液により基板を処理する基板処理装置であって、
第1供給液が連続的に流れる第1供給液ラインと、
前記第1供給液ラインに設けられ、前記第1供給液中の所定のガスの溶存濃度を測定する第1濃度測定部と、
前記第1供給液よりも前記ガスの溶存濃度が低い第2供給液が連続的に流れる第2供給液ラインと、
前記第2供給液ラインに設けられ、前記第2供給液中の前記ガスの溶存濃度を測定する第2濃度測定部と、
前記第1供給液と前記第2供給液とを混合して、前記ガスの溶存濃度が調整された処理液を生成する処理液調整部と、
前記処理液を基板に供給して前記基板を処理する基板処理部と、
制御部と、
を備え、
前記処理液調整部が、
前記第1供給液ラインにおいて前記第1濃度測定部よりも上流側の接続位置に一端が接続され、前記第1供給液が流れる第1分岐ラインと、
前記第2供給液ラインにおいて前記第2濃度測定部よりも上流側の接続位置に一端が接続され、前記第2供給液が流れる第2分岐ラインと、
前記第1分岐ラインまたは前記第2分岐ラインに設けられる流量調整部と、
前記第1分岐ラインの他端、および、前記第2分岐ラインの他端が接続され、前記第1供給液と前記第2供給液とを混合することにより、前記処理液を生成する混合部と、
を備え、
前記制御部が、前記処理液中の前記ガスの溶存濃度が設定値となるように、前記第1濃度測定部の測定値および前記第2濃度測定部の測定値に基づいて前記流量調整部を制御することを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/304
H01L21/306 R
, H01L21/304 648K
, H01L21/304 648G
, H01L21/304 643A
5F043DD13
, 5F043EE07
, 5F043EE08
, 5F043EE23
, 5F043EE31
, 5F043GG10
, 5F157AB02
, 5F157AB12
, 5F157AB33
, 5F157AB49
, 5F157AB90
, 5F157AC01
, 5F157AC26
, 5F157BB23
, 5F157BB24
, 5F157BC01
, 5F157CD32
, 5F157CE32
, 5F157CE38
, 5F157DB03
