基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：吉田茂明 , 吉竹英俊 , 有田貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-410182
公開番号（公開出願番号）：特開2005-175058
出願日： 2003年12月09日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：

【課題】窒素ガス濃度を安定させて処理液を循環供給できる基板処理装置を提供する。【解決手段】処理液の循環路において、処理液の窒素ガス濃度を測定する濃度計を、中空糸分離膜を用いて窒素ガスの溶解および脱気が可能な濃度可変部7の前後に第1窒素濃度計6、第2窒素濃度計8としてそれぞれ配置する。目標濃度と、第1窒素濃度計6および第2窒素濃度計8の測定値との濃度差に基づいて、窒素ガス供給経路5上の第1バルブと窒素ガス脱気経路13上の第2バルブ15との開閉状態を調整することにより、濃度可変部7における溶解および脱気を制御して、処理液の窒素ガス濃度を目標濃度値に保つことができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

処理槽からオーバーフローした処理液を所定の送液手段によって前記処理槽に循環供給する循環路を備え、前記処理槽内に基板を浸漬して基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、前記循環路に前記処理液中の不活性ガス濃度を調整する調整手段を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (1件)：

H01L21/304

FI (2件)：

H01L21/304 648G , H01L21/304 648K

引用特許：

出願人引用 (1件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-291398 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (12件)

半導体基板の洗浄方法及び洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-208299 出願人：住友金属工業株式会社
液管理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-038858 出願人：トキコ株式会社
超小型電子回路基板の改良された洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-015406 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション, シーメンス・アクチエンゲゼルシャフト

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