特許
J-GLOBAL ID：201803016731127327
保護素子を有する光学アセンブリおよびそのような光学アセンブリを有する光学装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
杉村 憲司
, 杉村 光嗣
, 橋本 大佑
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-522015
公開番号（公開出願番号）：特表2018-533770
出願日： 2016年10月26日
公開日（公表日）： 2018年11月15日
要約：
本発明は特にEUV放射(4)を反射させる光学素子(13)と、光学素子(13,14)の表面(31)を汚染物質(P)から保護する保護素子(30)とを含む光学アセンブリ(32)に関し、保護素子(30)は、薄膜(33a〜33c)と、この薄膜(33a〜33c)が装着されたフレーム(34)とを含む。薄膜(33a〜33c)は、光学素子(13)の表面(31)における部分領域(T)を汚染物質(P)からそれぞれ保護する複数の薄膜セグメント(33a, 33b, 33c)によって形成される。また本発明は少なくとも1つのこのような光学アセンブリ(32)を有する、例えばEUVリソグラフィシステムなどの光学装置にも関する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
光学アセンブリ(32)であって、
特にEUV放射(4)を反射するための光学素子(13,14)と、
前記光学素子(13,14)の表面(31)を汚染物質(P)から保護する、薄膜(33a〜33d)と該薄膜(33a〜33d)が装着されたフレーム(34)とを含む保護素子(30)とを含み、
前記薄膜(33a〜33d)は、それぞれ前記光学素子(13,14)の前記表面(31)の一部の領域(T)を前記汚染物質(P)から保護する複数の薄膜セグメント(33a,33b,33c,33d)によって形成される光学アセンブリ。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F7/20 503
, G03F7/20 521
, G02B5/08 A
2H042DA08
, 2H042DA16
, 2H042DB02
, 2H042DD04
, 2H042DE04
, 2H197AA05
, 2H197CA10
, 2H197GA01
, 2H197GA05
, 2H197GA08
, 2H197GA10
, 2H197GA12
, 2H197GA13
, 2H197GA16
, 2H197GA20
, 2H197GA23
, 2H197HA03
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示
前のページに戻る
