特許
J-GLOBAL ID：201803019498601934
基板処理装置および基板処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福島 祥人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-159917
公開番号（公開出願番号）：特開2014-022570
特許番号：特許第6239813号
出願日： 2012年07月18日
公開日（公表日）： 2014年02月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】基板上に複数種類の重合体から構成される誘導自己組織化材料からなる処理膜を形成するように構成された処理膜形成ユニットと、
前記処理膜形成ユニットにより基板上に形成された処理膜にミクロ相分離が生じるように、当該処理膜に溶剤を供給しつつ熱処理を行う熱処理ユニットと、
ミクロ相分離後の処理膜における前記複数種類の重合体の間の結合が切断されるように、前記熱処理ユニットによる熱処理後の処理膜の全面に露光処理を行う露光処理ユニットと、
前記露光処理ユニットによる露光処理後の処理膜に現像液を供給することにより現像処理を行うように構成された現像処理ユニットと、
基板を保持するためのハンドを有し、基板を前記ハンドにより保持して前記処理膜形成ユニット、前記露光処理ユニットおよび前記現像処理ユニットに対して搬送する第1の搬送機構とを備えた、基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/30 ( 200 6.01)
H01L 21/30 567
, H01L 21/30 502 D
, G03F 7/30
