特許
J-GLOBAL ID：201803020573986888

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

発明者：
藤井 達也

藤井 達也 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  松本 将尚 ,  宮本 龍 ,  飯田 雅人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-152997
公開番号（公開出願番号）：特開2018-022039
出願日： 2016年08月03日
公開日（公表日）： 2018年02月08日
要約：
【課題】リソグラフィー特性の向上が図られるとともに、ディフェクト発生が低減されたレジスト組成物を提供する。【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、アルカリ現像液に対して分解性を示すフッ素添加剤成分(F)と、を含有し、(A)は、一般式(a10-1)で表される構成単位を10モル%以上と、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位を30モル%以上とを有する樹脂成分(A1)を含み、(F)は、塩基解離性基を含む構成単位を有するフッ素樹脂成分(F1)を含むレジスト組成物(式中、Rは、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基である。Yax1は、単結合又は2価の連結基である。Wax1は、(nax1+1)価の芳香族炭化水素基である。nax1は、1〜3の整数である)。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、 酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、 アルカリ現像液に対して分解性を示すフッ素添加剤成分(F)と、 を含有し、 前記基材成分(A)は、下記一般式(a10-1)で表される構成単位(a10)を10モル%以上と、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位(a1)を30モル%以上と、を有する樹脂成分(A1)を含み、 前記フッ素添加剤成分(F)は、塩基解離性基を含む構成単位(f1)を有するフッ素樹脂成分(F1)を含むことを特徴とする、レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/20 521
Fターム (42件)：
2H197AA12 ,  2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CA09 ,  2H197CA10 ,  2H197CE01 ,  2H197CE10 ,  2H197GA01 ,  2H197HA03 ,  2H197JA22 ,  2H197JA24 ,  2H225AC00 ,  2H225AF24P ,  2H225AF25P ,  2H225AF54P ,  2H225AF67P ,  2H225AF71P ,  2H225AF99P ,  2H225AH16 ,  2H225AH38 ,  2H225AH50 ,  2H225AJ04 ,  2H225AJ52 ,  2H225AJ53 ,  2H225AJ54 ,  2H225AJ59 ,  2H225AM22P ,  2H225AM32P ,  2H225AM99P ,  2H225AN02P ,  2H225AN21P ,  2H225AN38P ,  2H225AN39P ,  2H225AN63P ,  2H225BA01P ,  2H225BA26P ,  2H225BA29P ,  2H225CA12 ,  2H225CB09 ,  2H225CB18 ,  2H225CC03 ,  2H225CC15
引用特許：
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM