レジスト組成物及びパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小島隆司 , 重松沙織 , 小林克成 , 石川武史 , 正木克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-189683
公開番号（公開出願番号）：特開2016-061933
出願日： 2014年09月18日
公開日（公表日）： 2016年04月25日
要約：

【解決手段】酸不安定基で置換又は非置換のカルボキシル基及び/又はαトリフルオロメチルヒドロキシ基を除く酸不安定基で置換又は非置換のヒドロキシ基を有する繰り返し単位を含有するポリマーと、ヒドロキシ基、ラクトン環、ラクタム環、スルトン環、スルホン基、スルホン酸エステル基、スルホンアミド基、カルボン酸アミド基、ニトロ基、シアノ基、チエニル基、フリル基、ピロール基、酸無水物基から選ばれる親水性基とオキシラン環又はオキセタン環の両方を有する化合物と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。【効果】本発明によれば、有機溶剤現像において溶解コントラストが大きく、かつ高感度なフォトレジスト組成物及び有機溶剤による現像によってポジネガ反転によるホールパターンやトレンチパターンを形成することができるパターン形成方法を提供することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

酸不安定基で置換又は非置換のカルボキシル基及び/又はαトリフルオロメチルヒドロキシ基を除く酸不安定基で置換又は非置換のヒドロキシ基を有する繰り返し単位を含有するポリマーと、ヒドロキシ基、ラクトン環、ラクタム環、スルトン環、スルホン基、スルホン酸エステル基、スルホンアミド基、カルボン酸アミド基、ニトロ基、シアノ基、チエニル基、フリル基、ピロール基、酸無水物基から選ばれる親水性基とオキシラン環又はオキセタン環の両方を有する化合物と、酸発生剤とを含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (10件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , G03F 7/038 , H01L 21/027 , C08F 212/14 , C08F 220/18 , C08F 220/28 , C08F 232/08 , C08F 234/00 , C08F 220/58

FI (11件)：

G03F7/004 501 , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , G03F7/038 601 , H01L21/30 502R , C08F212/14 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F232/08 , C08F234/00 , C08F220/58

Fターム (146件)：

2H125AE06P , 2H125AE07P , 2H125AE13P , 2H125AF13N , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF27P , 2H125AF38P , 2H125AF43P , 2H125AF45P , 2H125AF46P , 2H125AF48P , 2H125AF70P , 2H125AG00P , 2H125AH11 , 2H125AH12 , 2H125AH13 , 2H125AH15 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH22 , 2H125AJ02Y , 2H125AJ04X , 2H125AJ12Y , 2H125AJ14X , 2H125AJ14Y , 2H125AJ42Y , 2H125AJ47Y , 2H125AJ48X , 2H125AJ48Y , 2H125AJ52Y , 2H125AJ54X , 2H125AJ59X , 2H125AJ59Y , 2H125AJ65X , 2H125AJ65Y , 2H125AJ84Y , 2H125AM12P , 2H125AM15P , 2H125AM18P , 2H125AM23P , 2H125AM27P , 2H125AN37P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN54P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB08 , 2H125CB09 , 2H125CB16 , 2H125CC01 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 2H125FA05 , 2H225AE06P , 2H225AE07P , 2H225AE13P , 2H225AF16P , 2H225AF21N , 2H225AF24P , 2H225AF53P , 2H225AF68P , 2H225AF73P , 2H225AF75P , 2H225AF78P , 2H225AF79P , 2H225AF99P , 2H225AG00P , 2H225AH11 , 2H225AH12 , 2H225AH13 , 2H225AH15 , 2H225AH17 , 2H225AH19 , 2H225AJ02 , 2H225AJ04 , 2H225AJ12 , 2H225AJ13 , 2H225AJ42 , 2H225AJ47 , 2H225AJ48 , 2H225AJ51 , 2H225AJ53 , 2H225AJ54 , 2H225AJ59 , 2H225AJ74 , 2H225AM12P , 2H225AM15P , 2H225AM18P , 2H225AM23P , 2H225AM27P , 2H225AN37P , 2H225AN38P , 2H225AN39P , 2H225AN54P , 2H225BA01P , 2H225BA26P , 2H225CA12 , 2H225CB08 , 2H225CB09 , 2H225CB10 , 2H225CB18 , 2H225CC01 , 2H225CC15 , 2H225CD05 , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AM21P , 4J100AM21Q , 4J100AR09Q , 4J100AR32Q , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA04P , 4J100BA04Q , 4J100BA05P , 4J100BA10P , 4J100BA11R , 4J100BA14P , 4J100BA15P , 4J100BA20P , 4J100BA40P , 4J100BC02P , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100BC07P , 4J100BC09P , 4J100BC12P , 4J100BC43P , 4J100BC43Q , 4J100BC49P , 4J100BC52P , 4J100BC53R , 4J100BC58P , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA37 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (11件)

パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-123363 出願人：信越化学工業株式会社
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-051741 出願人：住友化学株式会社
フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-054131 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー

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