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J-GLOBAL ID：201902213149093227   整理番号：19A2658982

無酸素パラジウム/チタンを用いた新しい非蒸発型ゲッターコーティングの開発,放射光X線光電子分光による表面分析,残留ガス分析,排気速度評価

Development of a New Nonevaporable Getter Coating Using Oxygen-Free Palladium/Titanium, Surface Analysis by Synchrotron Radiation X-ray Photoelectron Spectroscopy, Residual Gas Analysis, and Evaluation of Pumping Speeds

著者 (10件)： 宮澤徹也 (総合研究大学院大学物質構造科学専攻) ,  栗原真志 (横浜国立大学大学院工学府物理情報工学専攻) ,  大野真也 (横浜国立大学大学院工学府物理情報工学専攻) ,  橋本綾子 (物質・材料研究機構) ,  橋本綾子 (筑波大学大学院数理物質科学研究科) ,  中山泰生 (東京理科大学理工学部先端化学科) ,  小澤健一 (東京工業大学理学院化学系) ,  菊地貴司 (高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所) ,  間瀬一彦 (総合研究大学院大学物質構造科学専攻) ,  間瀬一彦 (高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所)
資料名： 表面と真空  (Vacuum and Surface Science)
巻： 62  号： 9  ページ： 568-573(J-STAGE)  発行年： 2019年 
JST資料番号： G0194B  ISSN： 2433-5835  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 無酸素Pd/Tiと名付けた新しい非蒸発性ゲッタを開発した。133°Cでの活性化後,無酸素Pd/TiはH₂とCOを排出した。そのポンピング速度は,活性化と空気への暴露の繰り返しサイクル後でも減少しなかった。シンクロトロン放射X線光電子分光法による表面分析は,炭素汚染がUHVにおける加熱によりある程度減少するが,O₂圧力下では加熱によりかなり減少することを示した。酸素を含まないPd/Ti被覆チャンバーにおけるH₂,CO,H₂O,およびCH₄の分圧は,UHV中での焼成後に,ある程度減少したが,O₂圧力(O₂ベーキング)下でのベーキング後に著しく減少した。Pd表面上に吸着された炭素と水素を除去する触媒化学反応は,H₂,CO,H₂O,およびCH₄の分圧の減少の原因であると思われる。H₂とCOに対する無酸素Pd/Ti被覆チャンバーのポンピング速度は,O₂ベーキング後に著しく向上した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 処理 ,  *パラジウム ,  *チタン ,  *ゲッタリング ,  *被覆 ,  シンクロトロン放射 ,  X線光電子分光法 ,  表面分析 ,  残留ガス ,  *速度 ,  水素 ,  一酸化炭素 ,  環境汚染 ,  ベーキング ,  化学 ,  *実験装置
準シソーラス用語： 無酸素処理 ,  *非蒸発性ゲッタ ,  *コーティング ,  放射光 ,  X線光電子分光 ,  *排気速度 ,  炭素汚染 ,  触媒化学 ,  *チャンバ

著者キーワード (10件)： 非蒸発性ゲッター ,  無酸素Pd/Ti ,  SR-XPS ,  残留ガス分析 ,  ポンプ速度測定 ,  非蒸発性ゲッター ,  無酸素Pd/Ti ,  SR-XPS ,  残留ガス分析 ,  ポンプ速度測定

分類 (1件)： 真空技術  (BA02020L)

引用文献 (18件)：

• 1) C. Boffito, B. Ferrario, P. della Porta and L. Rosai : J. Vac. Sci. Technol. 18, 1117 (1981).
• 2) H.C. Hseuh and C. Lanni : J. Vac. Sci. Technol., A 1, 1283 (1983).
• 3) C. Benvenuti, P. Chiggiato, P. Costa Pinto, A. Escudeiro Santana, T. Hedley, A. Mongelluzzo, V. Ruzinov and I. Wevers : Vacuum 60, 57 (2001).
• 4) C. Benvenuti, P. Chiggiato, A. Mongelluzzo, A. Prodromides, V. Ruzinov, C. Scheuerlein, M. Taborelli and F. Lévy : J. Vac. Sci. Technol., A 19, 2925 (2001).
• 5) K. Mase and T. Kikuchi : Japan Patent applied, 2016-230510 (28 November 2016).

タイトルに関連する用語 (11件)： パラジウム ,  チタン ,  蒸発 ,  開発 ,  放射光 ,  X線光電子分光 ,  表面分析 ,  残留 ,  ガス分析 ,  排気速度 ,  評価