特許
J-GLOBAL ID:201903002236426985
回折光学素子、光照射装置、光照射システム、投影パターンの補正方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
正林 真之
, 芝 哲央
, 林 一好
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-131403
公開番号(公開出願番号):特開2019-028456
出願日: 2018年07月11日
公開日(公表日): 2019年02月21日
要約:
【課題】撮影レンズに起因する歪みを簡単に修正できる回折光学素子、光照射装置、光照射システム、投影パターンの補正方法を提供する。【解決手段】回折光学素子10は、光を整形する回折光学素子であって、入射した光を回折して出射することにより投影される投影パターンとして、第1の投影パターン23と、第1の投影パターン23とは別の投影パターンであって、投影パターンにおける位置を特定する位置基準パターン24と、を投影する回折格子を備える。【選択図】図5
請求項(抜粋):
光を整形する回折光学素子であって、
入射した光を回折して出射することにより投影される投影パターンとして、
第1の投影パターンと、
前記第1の投影パターンとは別の投影パターンであって、投影パターンにおける位置を特定する位置基準パターンと、
を投影する回折格子を備える回折光学素子。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (18件):
2H249AA03
, 2H249AA13
, 2H249AA50
, 2H249AA55
, 2H249AA65
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB08
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CD12
, 5B057CD20
, 5B057CF05
, 5B057DA07
, 5B057DA16
, 5B057DC07
, 5B057DC09
引用特許:
出願人引用 (9件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示
前のページに戻る