特許
J-GLOBAL ID：201903004701154086
位相シフトマスクブランク及びその製造方法、位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (2件)：
押野 宏
, 大島 孝文
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-075943
公開番号（公開出願番号）：特開2018-109792
特許番号：特許第6553240号
出願日： 2018年04月11日
公開日（公表日）： 2018年07月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ウェットエッチングにより透明基板上に光半透過膜パターンが形成されている表示装置製造用の位相シフトマスクを作製するための位相シフトマスクブランクにおいて、
該位相シフトマスクブランクは、
透明基板と、
前記透明基板の主表面上に形成された、露光光に含まれる代表波長の光の位相を略180度変える性質を有しかつクロム系材料から構成される光半透過膜と、
該光半透過膜上に形成された、金属シリサイド系材料から構成されるエッチングマスク膜と、を備え、
前記金属シリサイド系材料は、金属シリサイドの窒化物、金属シリサイドの酸化窒化物、金属シリサイドの炭化窒化物、または金属シリサイドの酸化炭化窒化物であって、窒素の含有量は、25原子%以上55原子%以下であることを特徴とする位相シフトマスクブランク。
IPC (2件)：
G03F 1/32 ( 201 2.01)
, G03F 1/80 ( 201 2.01)
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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