特許
J-GLOBAL ID：201903004854643299

電場/磁場案内された酸拡散

発明者：
シエ, ポン

シエ, ポン について

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ゴデット, ルドヴィーク

ゴデット, ルドヴィーク について

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マー, トリスタン

マー, トリスタン について

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オルソン, ジョセフ シー.

オルソン, ジョセフ シー. について

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ベンチャー, クリストファー

ベンチャー, クリストファー について


出願人/特許権者：
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 園田・小林特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-041599
公開番号（公開出願番号）：特開2018-164076
特許番号：特許第6582081号
出願日： 2018年03月08日
公開日（公表日）： 2018年10月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を処理するための装置であって、 基板を基板支持体の上で支持するように構成された表面を含む基板支持体と、 前記基板支持体の前記表面に位置付けられた基板を加熱するように構成された熱源と、 前記基板支持体の前記表面の反対側に位置付けられており、一又は複数のアンテナを有する第1の電極、及び一又は複数のアンテナを有する第2の電極を備える電極アセンブリであって、 前記第1の電極の少なくとも1つのアンテナ及び前記第2の電極の少なくとも1つのアンテナが交互配置され、 前記基板支持体の前記表面にほぼ平行な方向に電場を生成して基板の処理中に基板内に発生する酸の拡散を制御するように構成された電極アセンブリと、 前記電極アセンブリに結合し、当該電極アセンブリを縦方向又は横方向に移動するように構成されたアクチュエータと を備える装置。
IPC (6件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  G03F 7/38 ( 200 6.01) ,  G03F 7/40 ( 200 6.01) ,  B05C 11/08 ( 200 6.01) ,  B05C 9/14 ( 200 6.01)
FI (7件)：
H01L 21/30 568 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/38 501 ,  G03F 7/38 511 ,  G03F 7/40 ,  B05C 11/08 ,  B05C 9/14
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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