特許
J-GLOBAL ID：201903016375152009

複数の酸発生剤化合物を含むフォトレジスト

発明者：
ジェームズ・ダブリュー.サッカレー

ジェームズ・ダブリュー.サッカレー について

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チン・ウク・ソン

チン・ウク・ソン について

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ポール・ジェイ.ラボーム

ポール・ジェイ.ラボーム について

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ビプル・ジェイン

ビプル・ジェイン について


出願人/特許権者：
ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー

ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー について


代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-207873
公開番号（公開出願番号）：特開2017-049599
特許番号：特許第6525377号
出願日： 2016年10月24日
公開日（公表日）： 2017年03月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (a)ポリマーであって、それに結合された酸発生剤を含むポリマー、および (b)前記ポリマーに結合されておらずかつ1つ以上の酸不安定基を含む酸発生剤化合物、 を含むフォトレジスト組成物であって、 前記(a)結合された酸発生剤が、チオキサントン部分を含み、 前記ポリマーの繰り返し単位の構造中の前記(a)結合された酸発生剤のカチオン成分が酸不安定基を含み、および前記ポリマーに結合された酸発生剤アニオン成分が、 からなる群から選択される1種以上のモノマーから誘導される、フォトレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  C08F 20/38 ( 200 6.01) ,  C09K 3/00 ( 200 6.01)
FI (5件)：
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/20 521 ,  C08F 20/38 ,  C09K 3/00 K
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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