特許
J-GLOBAL ID:201903019080551040

光学分析システム及び光学分析方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 杉村 憲司 ,  杉村 光嗣 ,  太田 昌宏 ,  橋本 大佑
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-109776
公開番号(公開出願番号):特開2019-211400
出願日: 2018年06月07日
公開日(公表日): 2019年12月12日
要約:
【課題】化学反応系において合成された生成物の光学異性に関する情報を、サンプルを抽出する必要なく、かつ非破壊的に分析できる光学分析システム及び光学分析方法を提供する。【解決手段】本開示に係る光学分析システム1は、第1原料Aと第2原料Bとを合成して生成物ABを得る化学反応系30において、合成開始前の第1原料A及び第2原料Bそれぞれに照射光L1を照射し、かつ合成開始後の混合物Cに照射光L1を照射する照射部11と、第1原料A、第2原料B、及び混合物Cそれぞれの分光スペクトルに関する情報を含む測定光L2を検出する検出部12と、第1原料A、第2原料B、及び混合物Cそれぞれの分光スペクトルを算出し、生成物ABの分光スペクトルを算出する演算部22と、を備え、生成物ABは、異性化していない化合物、及び互いに光学異性体の関係を有する一対の化合物のうちいずれかを含む。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第1原料と第2原料とを合成して生成物を得る化学反応系において、合成開始前の前記第1原料及び前記第2原料それぞれに照射光を照射し、かつ前記第1原料、前記第2原料、及び前記生成物を含む合成開始後の混合物に照射光を照射する照射部と、 前記照射部によって照射された前記照射光に基づく測定光であって、前記第1原料、前記第2原料、及び前記混合物それぞれの分光スペクトルに関する情報を含む前記測定光を検出する検出部と、 前記第1原料、前記第2原料、及び前記混合物それぞれの分光スペクトルを算出し、各分光スペクトルに基づいて、前記生成物の分光スペクトルを算出する演算部と、 を備え、 前記生成物は、異性化していない化合物、及び互いに光学異性体の関係を有する一対の化合物のうちいずれかを含む、 光学分析システム。
IPC (2件):
G01N 21/359 ,  G01N 21/357
FI (2件):
G01N21/359 ,  G01N21/3577
Fターム (13件):
2G059AA01 ,  2G059AA02 ,  2G059BB04 ,  2G059CC12 ,  2G059EE01 ,  2G059EE03 ,  2G059EE07 ,  2G059GG01 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ01 ,  2G059KK01 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10
引用特許:
出願人引用 (6件)
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