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J-GLOBAL ID：202002276914165532   整理番号：20A0377961

低基板温度下で作製した窒素含有ダイヤモンド状炭素/タングステンと窒素含有ダイヤモンド状炭素/炭化タングステン多層膜の電気抵抗率と機械的性質【JST・京大機械翻訳】

Electrical resistivity and mechanical properties of nitrogen-containing diamondlike carbon/tungsten and nitrogen-containing diamondlike carbon/tungsten carbide multilayer films prepared under low substrate temperature

著者 (12件)： Tamekuni Koki (Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku, Toyohashi, Aichi 4418580, Japan) ,  Harigai Toru (Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku, Toyohashi, Aichi 4418580, Japan) ,  Toya Takafumi (Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku, Toyohashi, Aichi 4418580, Japan) ,  Takikawa Hirofumi (Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku, Toyohashi, Aichi 4418580, Japan) ,  Tanimoto Tsuyoshi (National Institute of Technology, Kochi College, 200-1 Monobe, Nankoku, Kochi 7838508, Japan) ,  Takago Shigeki (Industrial Research Institute of Ishikawa, 2-1 Shunsuki, Kanazawa, Ishikawa 9208203, Japan) ,  Yasui Haruyuki (Industrial Research Institute of Ishikawa, 2-1 Shunsuki, Kanazawa, Ishikawa 9208203, Japan) ,  Kaneko Satoru (Kanagawa Institute of Industrial Science and Technology, 705-1 Shimoimaizumi, Ebina, Kanagawa 2430435, Japan) ,  Kunitsugu Shinsuke (Industrial Technology Center of Okayama Prefecture, 5301 Yoshiga, Kitaku, Okayama, Okayama 7011296, Japan) ,  Kamiya Masao (Itoh Optical Industrial Co., Ltd., 3-19 Miyanarityo, Gamagori, Aichi 443004, Japan) ,  Taki Makoto (Onward Ceramic Coating Co., Ltd., wa-13 Yoshiharatyo, Nomi, Ishikawa 9290111, Japan) ,  Gonda Hidenobu (OSG Coating Service Co., Ltd., 149 Ichinomiyamae, Toyokawa, Aichi 4411231, Japan)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 38  号： 1  ページ： 011801-011801-7  発行年： 2020年 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒素含有ダイヤモンド状炭素(N-DLC)膜は,高い耐摩耗性と低い電気抵抗率を有する優れた表面保護膜である。本論文では,N-DLC層間に形成された低電気抵抗層を有するN-DLC/タングステン(W)およびN-DLC/炭化タングステン(WC)多層膜を提示した。低基板温度での不平衡マグネトロンスパッタリング法を用いて,低電気抵抗層としてWまたはWC層を形成した。N-DLC層を,T-形状フィルタリングアーク蒸着法により作製した。N-DLC/WC多層膜はN-DLC単層膜と比較して高い研磨抵抗を示し,多層膜の電気抵抗率は単層膜と比較して約半分であった。多層膜の高い研磨抵抗は,硬い層として作用するWC層と,膜荷重を吸収するための緩衝層として作用するN-DLC層に起因すると考えられた。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *多層膜 ,  *基板温度 ,  *タングステン ,  研磨 ,  機械的性質 ,  耐摩耗性 ,  フィルタリング ,  *電気抵抗率 ,  *炭化タングステン ,  *窒素 ,  バッファ層 ,  *ダイヤモンド状炭素 ,  マグネトロンスパッタリング ,  非平衡状態
準シソーラス用語： 単層膜 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (9件)： 基板温度 ,  作製 ,  窒素 ,  ダイヤモンド状炭素 ,  タングステン ,  炭化タングステン ,  多層膜 ,  電気抵抗率 ,  機械的性質