特許
J-GLOBAL ID：202003005730875903
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 松本 将尚
, 宮本 龍
, 飯田 雅人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-152997
公開番号（公開出願番号）：特開2018-022039
特許番号：特許第6726559号
出願日： 2016年08月03日
公開日（公表日）： 2018年02月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、
酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、
アルカリ現像液に対して分解性を示すフッ素添加剤成分(F)と、
を含有し、
前記基材成分(A)は、下記一般式(a10-1)で表される構成単位(a10)を10モル%以上と、下記一般式(a1-1-1)で表される構成単位(a1)を30モル%以上と、を有する樹脂成分(A1)を含み、
前記フッ素添加剤成分(F)は、塩基解離性基を含む構成単位(f1)を有するフッ素樹脂成分(F1)を含むことを特徴とする、レジスト組成物。
[式中、Rは、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基である。Va1は、エーテル結合を有していてもよい2価の炭化水素基である。na1は、0〜2の整数である。Ra1”は、一般式(a1-r2-2)、(a1-r2-3)又は(a1-r2-4)で表される酸解離性基である。Yaは炭素原子である。Xaは、Yaと共に環状の炭化水素基を形成する基である。この環状の炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。Ra01〜Ra03は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜10の1価の鎖状飽和炭化水素基又は炭素数3〜20の1価の脂肪族環状飽和炭化水素基である。この鎖状飽和炭化水素基及び脂肪族環状飽和炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。Ra01〜Ra03の2つ以上が互いに結合して環状構造を形成していてもよい。Yaaは炭素原子である。Xaaは、Yaaと共に脂肪族環式基を形成する基である。Ra04は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。Ra’12及びRa’13は、それぞれ独立に、炭素数1〜10の1価の鎖状飽和炭化水素基又は水素原子である。この鎖状飽和炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。Ra’14は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。*は結合手を示す。]
[式中、Rは、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基である。Yax1は、単結合又は2価の連結基である。Wax1は、置換基を有していてもよい(nax1+1)価の芳香族炭化水素基である。nax1は、1〜3の整数である。]
IPC (3件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, G03F 7/20 521
