特許
J-GLOBAL ID：202003019687188906
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-074954
公開番号（公開出願番号）：特開2016-199537
特許番号：特許第6706955号
出願日： 2016年04月04日
公開日（公表日）： 2016年12月01日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 式(Ia)で表される基を有するアニオンと式(IC)で表されるカチオンとを有する塩。
[式(Ia)中、
Xa及びXbは、互いに独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。
X1は、少なくとも1つのフッ素原子を有する2価の炭素数1〜12の飽和炭化水素基を表す。
*は、結合手を表す。]
[式(IC)中、
R1及びR2は、互いに独立に、水素原子、ヒドロキシ基又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。
m及びnは、互いに独立に、1又は2を表す。mが2のとき、2つのR1は同一であっても異なってもよく、nが2のとき、2つのR2は同一であっても異なってもよい。
Arは、置換基を有していてもよい炭素数6〜36の芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜36のヘテロ芳香族炭化水素基を表す。]
IPC (9件)：
C07D 319/14 ( 200 6.01)
, C07D 339/08 ( 200 6.01)
, C07D 321/06 ( 200 6.01)
, C07D 321/12 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, C07C 381/12 ( 200 6.01)
, C07C 309/17 ( 200 6.01)
, C07C 25/18 ( 200 6.01)
C07D 319/14 CSP
, C07D 339/08
, C07D 321/06
, C07D 321/12
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/038 601
, C07C 381/12
, C07C 309/17
, C07C 25/18
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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