研究者
J-GLOBAL ID:202101020254741684   更新日: 2024年04月01日

小林 拓真

コバヤシ タクマ | Kobayashi Takuma
所属機関・部署:
職名: 准教授
ホームページURL (2件): http://www-ade.prec.eng.osaka-u.ac.jp/http://www-ade.prec.eng.osaka-u.ac.jp/index-e.php
研究分野 (3件): 光工学、光量子科学 ,  薄膜、表面界面物性 ,  電気電子材料工学
研究キーワード (4件): ワイドギャップ半導体 ,  パワーデバイス ,  量子テクノロジー ,  欠陥
競争的資金等の研究課題 (4件):
  • 2022 - 2026 集積可能な炭化珪素光量子プロセッサの基盤技術構築
  • 2023 - 2025 窒化ガリウムMOSデバイスにおけるキャリア散乱機構の研究
  • 2021 - 2023 電子状態観察と分光学的解析による炭化珪素/酸化膜界面欠陥の起源解明
  • 2015 - 2018 高性能SiC MOSFETの実現に向けた界面物性及びキャリア散乱機構の基礎研究
論文 (48件):
  • Takuma Kobayashi, Asato Suzuki, Takato Nakanuma, Mitsuru Sometani, Mitsuo Okamoto, Akitaka Yoshigoe, Takayoshi Shimura, Heiji Watanabe. Characterization of nitrided SiC(1-100) MOS structures by means of electrical measurements and X-ray photoelectron spectroscopy. Materials Science in Semiconductor Processing. 2024. 175. 108251-1-108251-7
  • Takuma Kobayashi, Kazuki Tomigahara, Mikito Nozaki, Takayoshi Shimura, Heiji Watanabe. Separate evaluation of interface and oxide hole traps in SiO2/GaN MOS structures with below- and above-gap light excitation. Applied Physics Express. 2023. 17. 1. 011003-1-011003-5
  • Tae-Hyeon Kil, Takuma Kobayashi, Takayoshi Shimura, Heiji Watanabe. Design of SiO2/4H-SiC MOS interfaces by sputter deposition of SiO2 followed by high-temperature CO2-post deposition annealing. AIP Advances. 2023. 13. 11. 115304-1-115304-5
  • Takuma Kobayashi, Takayoshi Shimura, Heiji Watanabe. Oxygen-vacancy defect in 4H-SiC as a near-infrared emitter: An ab initio study. Journal of Applied Physics. 2023. 134. 14. 145701-1-145701-9
  • Hidetoshi Mizobata, Mikito Nozaki, Takuma Kobayashi, Takayoshi Shimura, Heiji Watanabe. Passivation of hole traps in SiO2/GaN metal-oxide-semiconductor devices by high-density magnesium doping. Applied Physics Express. 2023. 16. 10. 105501-1-105501-4
もっと見る
特許 (3件):
書籍 (1件):
  • 次世代パワー半導体の開発・評価と実用化
    (株)エヌ・ティー・エス 2022 ISBN:9784860437671
講演・口頭発表等 (142件):
  • 犠牲酸化プロセスによる SiC MOSFET の電気特性劣化
    (第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
  • Si基板上GeSn細線のレーザー溶融結晶化における下地SiO2膜厚とレーザー走査速度の最適化
    (第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
  • 低温追酸化によるSiO2/SiC界面発光中心の密度制御と電気特性との相関
    (第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
  • 第一原理計算に基づく4H-SiC中酸素関連欠陥の系統的調査
    (第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
  • Si 基板上GeSn細線のレーザー溶融結晶化におけるレーザー走査条件と下地SiO2膜厚の最適化
    (第 29 回電子デバイス界面テクノロジー研究会 2024)
もっと見る
学歴 (3件):
  • 2015 - 2018 京都大学 大学院工学研究科 電子工学専攻 博士後期課程
  • 2013 - 2015 京都大学 大学院工学研究科 電子工学専攻 修士課程
  • 2009 - 2013 大阪大学 基礎工学部 電子物理科学科
学位 (1件):
  • 博士(工学) (京都大学)
経歴 (9件):
  • 2024/04 - 現在 大阪大学 大学院工学研究科 物理学系専攻 准教授
  • 2023/04 - 現在 大阪大学 大学院工学研究科 CFi 次世代リーダー教員
  • 2022/10 - 現在 JST 戦略的創造研究推進事業 さきがけ 個人研究者
  • 2021/01 - 2024/03 大阪大学 大学院工学研究科 物理学系専攻 助教
  • 2019/10 - 2020/12 エアランゲン大学 物理学科 日本学術振興会海外特別研究員
全件表示
委員歴 (1件):
  • 2024/04 - 現在 応用物理学会 先進パワー半導体分科会 会計幹事(常任)
受賞 (7件):
  • 2023/12 - 第12回 エヌエフ基金研究開発奨励賞 優秀賞
  • 2023/05 - 第22回 船井研究奨励賞
  • 2022/03 - 第43回 応用物理学会論文奨励賞
  • 2015/11 - 研究奨励賞, 応用物理学会先進パワー半導体分科会 第2回講演会
  • 2015/01 - 発表奨励賞, 第294回 電気材料技術懇談会 若手研究発表会
全件表示
所属学会 (4件):
SAKIGAKEクラブ(大阪大学) ,  応用物理学会 先進パワー半導体分科会 ,  応用物理学会 ,  IEEE
※ J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、こちらをご覧ください。

前のページに戻る