特許
J-GLOBAL ID：202103000617911540

水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

発明者：
松本 佳久

松本 佳久 について

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岩岡 秀明

岩岡 秀明 について

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有田 誠

有田 誠 について

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堀田 善治

堀田 善治 について


出願人/特許権者：
株式会社ハイドロネクスト

株式会社ハイドロネクスト について


代理人 (1件)： 松本 秀治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2021-003753
公開番号（公開出願番号）：特開2021-058889
出願日： 2021年01月13日
公開日（公表日）： 2021年04月15日
要約：
【課題】水素透過性能、耐水素脆性および耐久性のバランスを担保した固溶体単相合金の水素分離膜の製造方法を提供する。【解決手段】 水素を選択的に透過させることができる薄膜状のニッケル、パラジウム、ニオブ、バナジウム、又はタンタルの合金に対し、ε=10以上の巨大ひずみを付与する強歪み加工として高圧ねじり(HPT)加工を行うことで、水槽分離膜を製造する。【選択図】図21
請求項（抜粋）：
水素を選択的に透過させることができる水素分離膜の製造方法であって、 当該水素分離膜が、ニッケル、パラジウム、ニオブ、バナジウム、又はタンタルの合金であり、 当該水素分離膜に対し、ε=10以上のひずみを付与する強歪み加工を行うことを特徴とする、水素分離膜の製造方法。
IPC (4件)：
B01D 71/02 ,  B01D 53/22 ,  C01B 3/56 ,  C01B 3/58
FI (4件)：
B01D71/02 500 ,  B01D53/22 ,  C01B3/56 Z ,  C01B3/58
Fターム (11件)：
4D006GA41 ,  4D006MA03 ,  4D006MB03 ,  4D006MB04 ,  4D006MB16 ,  4D006MC02X ,  4D006NA65 ,  4D006PA01 ,  4G140FC01 ,  4G140FC07 ,  4G140FE01
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)
引用文献：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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