特許
J-GLOBAL ID：202103002286529805
レジスト材料及びパターン形成方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人英明国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-197752
公開番号（公開出願番号）：特開2018-060069
特許番号：特許第6980993号
出願日： 2016年10月06日
公開日（公表日）： 2018年04月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ベースポリマーと、下記式(A)で表されるカルボン酸塩又は下記式(B)で表されるスルホンアミド塩とを含むレジスト材料。
(式中、R1は、直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素数1〜30のアルキル基、直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素数2〜30のアルケニル基、直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素数2〜30のアルキニル基、又は炭素数6〜20のアリール基であり、1個以上のフッ素原子、臭素原子又はヨウ素原子を含み、エステル基、エーテル基、スルフィド基、スルホキシド基、カーボネート基、カーバメート基、スルホン基、アミノ基、アミド基、ヒドロキシ基、チオール基、ニトロ基又はハロゲン原子を含んでいてもよい(ただし、ヨウ素化芳香族基は含まない。)。R2は、フッ素原子、直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素数1〜10のフッ素化アルキル基、又はフッ素化フェニル基であり、ヒドロキシ基、エーテル基、エステル基又はアルコキシ基を含んでいてもよい。R3は、水素原子、直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素数1〜10のアルキル基、直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素数2〜10のアルケニル基、直鎖状若しくは分岐状の炭素数2〜10のアルキニル基、又は炭素数6〜10のアリール基であり、ヒドロキシ基、エーテル基、エステル基、アルコキシ基を含んでいてもよい。Mn+は、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Ce3+、Al3+、Ga3+、Tl3+、Sc3+又はY3+である。nは、Mn+で表される金属イオンの価数を表し、2又は3である。)
IPC (16件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, C09K 3/00 ( 200 6.01)
, C08F 12/14 ( 200 6.01)
, C08F 20/10 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, C07C 53/15 ( 200 6.01)
, C07C 59/115 ( 200 6.01)
, C07C 63/70 ( 200 6.01)
, C07C 53/16 ( 200 6.01)
, C07C 53/18 ( 200 6.01)
, C07C 61/15 ( 200 6.01)
, C07C 61/40 ( 200 6.01)
, C07C 63/06 ( 200 6.01)
, C07C 311/09 ( 200 6.01)
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, G03F 7/038 601
, G03F 7/004 504
, C09K 3/00 K
, C08F 12/14
, C08F 20/10
, G03F 7/20 501
, G03F 7/20 521
, C07C 53/15
, C07C 59/115
, C07C 63/70
, C07C 53/16
, C07C 53/18
, C07C 61/15
, C07C 61/40
, C07C 63/06
, C07C 311/09
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (7件)
全件表示
前のページに戻る
