特許
J-GLOBAL ID：202103002451006448
フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人後藤特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-052778
公開番号（公開出願番号）：特開2016-204633
特許番号：特許第6838863号
出願日： 2016年03月16日
公開日（公表日）： 2016年12月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 単量体及び重合開始剤を滴下する滴下重合法により前記単量体をラジカル重合させて得られるフォトレジスト用樹脂の製造方法であって、
前記重合開始剤の滴下開始後10分以上経過したのちに前記単量体を滴下開始し、前記単量体の滴下開始後から滴下終了時(前記単量体と前記重合開始剤の滴下が同時に終了する場合は前記単量体及び前記重合開始剤の滴下終了時であり、前記単量体及び前記重合開始剤それぞれの滴下が終了する時刻が異なる場合は後に滴下が終了した成分の滴下終了時)までの間の任意の時刻tCにおける反応溶液中の前記重合開始剤の濃度(ItC)と、前記tC後から滴下終了時までの間の任意の時刻tDにおける反応溶液中の前記重合開始剤の濃度(ItD)との関係が、常にItC>ItDであり、
前記単量体の滴下開始後から前記滴下終了時までの間の任意の時刻tAにおける生成したポリマーの重量平均分子量(MwtA)と、前記tA後から前記滴下終了時までの間の任意の時刻tBにおける生成したポリマーの重量平均分子量(MwtB)との関係が、常にMwtA<MwtBである、フォトレジスト用樹脂の製造方法。
IPC (3件)：
C08F 2/06 ( 200 6.01)
, C08F 2/38 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
C08F 2/06
, C08F 2/38
, G03F 7/038 601
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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