特許
J-GLOBAL ID:202103006974804920

膜、マルチレベル素子、マルチレベル素子の製造方法、マルチレベル素子の駆動方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 井関 勝守 ,  金子 修平
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-565729
特許番号:特許第6836604号
出願日: 2018年10月18日
請求項(抜粋):
【請求項1】 伝導帯(conduction band)内の低レベル(low level)電子エネルギー範囲でエクステンデット状態(extended state)である第1の電子状態の数の曲線を提供し、前記伝導帯内の、前記低レベル電子エネルギー範囲よりも高い高レベル(high level)電子エネルギー範囲で第2の電子状態の数の曲線を提供し、 前記低レベル電子エネルギー範囲と前記高レベル電子エネルギー範囲との間で局在状態(localized state)が提供され、 前記第1の電子状態の数の曲線の面積は、前記第2の電子状態の数の曲線の面積に比べて小さい、膜。
IPC (2件):
H01L 21/336 ( 200 6.01) ,  H01L 29/786 ( 200 6.01)
FI (3件):
H01L 29/78 618 A ,  H01L 29/78 618 E ,  H01L 29/78 618 B
引用特許:
審査官引用 (5件)
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