ノボラック型樹脂及びレジスト膜

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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：小川眞治 , 岩本明洋 , 大野孝幸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-117081
公開番号（公開出願番号）：特開2017-222737
特許番号：特許第6828279号
出願日： 2016年06月13日
公開日（公表日）： 2017年12月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ヒドロキシベンゼン化合物とアルデヒド化合物(B)とを必須の反応原料とする原料ノボラック型樹脂と、ポリヒドロキシベンゼン化合物(A)と、アルデヒド化合物(B)とを必須の反応原料とするノボラック型樹脂構造を有し、樹脂中のフェノール性水酸基の水素原子の一部乃至全部が、3級アルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ原子含有環状炭化水素基、トリアルキルシリル基の何れかで置換されていることを特徴とするノボラック型樹脂。

IPC (3件)：