パーティクル発生抑制方法及び真空装置

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：伊東忠重 , 伊東忠彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-171641
公開番号（公開出願番号）：特開2019-071410
特許番号：特許第6956696号
出願日： 2018年09月13日
公開日（公表日）： 2019年05月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】アルマイト処理された部品を有する真空装置のパーティクル発生抑制方法であって、前記真空装置内を排気して降圧し、該真空装置内の圧力を1.3×10-1Pa(1mTorr)以下に真空引きする排気工程Aと、前記排気工程Aの後に、前記真空装置内を大気圧に昇圧する昇圧工程と、前記昇圧工程の後に、前記アルマイト処理された部品に水分を付着させる水分付着工程と、前記水分付着工程の後に、前記真空装置内を排気する排気工程Bと、を有する、パーティクル発生抑制方法。

IPC (2件)：