特許
J-GLOBAL ID：202203017566822820

アルミニウム膜の形成方法

発明者：
戸倉 裕示

戸倉 裕示 について


出願人/特許権者：
三菱電機株式会社

三菱電機株式会社 について


代理人 (2件)： 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-117580
公開番号（公開出願番号）：特開2019-220598
特許番号：特許第7030626号
出願日： 2018年06月21日
公開日（公表日）： 2019年12月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板に対してアルミニウムまたはアルミニウム化合物を材料とする膜であるアルミニウム膜を形成する方法であって、 前記基板に対して前記材料をスパッタリングして0.1μm以上1μm未満の厚さを有する第1膜を形成するステップと、 前記第1膜を加熱して前記第1膜をリフローするステップと、 リフロー後の前記第1膜に対して前記材料をスパッタリングして第2膜を形成するステップと、 前記第2膜を加熱して前記第2膜をリフローするステップと、 リフロー後の前記第2膜に対して前記材料をスパッタリングして第3膜を形成するステップと、 前記第3膜を加熱して前記第3膜をリフローするステップとを備え、 前記基板は前記材料がスパッタリングされる側において凹部の長さに対する凸部の高さの比が0.5以下である凹凸のパターンを有し、 前記凹凸のパターンはほぼ90度の傾斜を呈する、アルミニウム膜の形成方法。
IPC (3件)：
H01L 21/285 ( 200 6.01) ,  H01L 21/28 ( 200 6.01) ,  C23C 14/14 ( 200 6.01)
FI (3件)：
H01L 21/285 S ,  H01L 21/28 301 R ,  C23C 14/14 B
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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