X線回折による高分子測定方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：川本真由美 , 式見真行 , 畠中省伍
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2023-044179
公開番号（公開出願番号）：特開2023-075325
出願日： 2023年03月20日
公開日（公表日）： 2023年05月30日
要約：

【課題】表面(界面)における高分子の運動を測定でき、X線の全反射状態で高分子を観測することによって、標識なしに観測対象の表面近傍の情報が得られる、分析装置および分析方法を提供する。【解決手段】高分子のX線に対する全反射角度前後でX線を高分子に照射し、時分割回折・散乱像を取得できる分析装置:ならびにX線の全反射角度でX線を高分子試料に照射する工程、時分割回折・散乱像を取得し、高分子表面の運動性を評価する工程を有する、高分子の分析方法。【選択図】図3

請求項（抜粋）：