特許

J-GLOBAL ID：202303012540143653

X線回折による高分子測定方法

発明者： 稲益 礼奈 ,  山口 央基 ,  佐々木 裕次 ,  三尾 和弘
出願人/特許権者： ダイキン工業株式会社 ,  国立研究開発法人産業技術総合研究所
代理人 (3件)： 川本 真由美 ,  式見 真行 ,  畠中 省伍
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2023-044179
公開番号（公開出願番号）：特開2023-075325
出願日： 2023年03月20日
公開日（公表日）： 2023年05月30日
要約：

【課題】表面(界面)における高分子の運動を測定でき、X線の全反射状態で高分子を観測することによって、標識なしに観測対象の表面近傍の情報が得られる、分析装置および分析方法を提供する。 【解決手段】高分子のX線に対する全反射角度前後でX線を高分子に照射し、時分割回折・散乱像を取得できる分析装置:ならびにX線の全反射角度でX線を高分子試料に照射する工程、時分割回折・散乱像を取得し、高分子表面の運動性を評価する工程を有する、高分子の分析方法。 【選択図】図3

請求項（抜粋）：

臨界角前後の入射角でX線を高分子に照射し、時分割回折・散乱像を取得できる分析装置。

IPC (1件)：

G01N 23/205

FI (2件)：

G01N23/2055 310 ,  G01N23/205

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 運動計測装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2016-226495   出願人：国立大学法人東京大学