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J-GLOBAL ID：200902084069962387   Reference number：89A0496013

Pyrolytic process of halogen-containing gas molecule on Si surface.

Si表面上におけるハロゲン含有ガス分子の熱分解過程

Author (7)： TSUCHIYA HACHIRO (京都工繊大 工芸) ,  GOTO HIDEKAZU (京都工繊大 工芸) ,  MORI YUZO (大阪大 工) ,  HIROSE KIKUJI (帝国女大) ,  MIYAZAKI MAKOTO (京都工繊大 工芸) ,  YASUDA TERUHIRO (住友電気工業) ,  UEMATSU YOSHITERU (関西日本電気)
Material： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
Volume： 55  Issue： 8  Page： 1475-1480  Publication year： Aug. 1989 
JST Material Number： F0268A  ISSN： 0912-0289  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： thermal decomposition ,...

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JST classification (1)： Special machining  (QC04000Y)

Reference (16)：

• 1) R. J. von Gutfeld and R. T. Hodgson : Laser Enhanced Etching in KOH, Appl. Phys. Lett., 40, 15, (1982) 352.
• 2) 広瀬全孝 : レーザエッチング, 電気学会雑誌, 108, 11 (1988) 1081.
• 3) 高井幹夫, 蒲生健次, 難波 進 : III-V族化合物半導体のレーザー誘起エッチング, 応用物理, 55, 8(1986)805.
• 4) 小藪国夫, 渡辺純二 : Nd : YAGレーザとKOH液による Al₂O₃/TiCセラミックスのレーザアシストエッチング, 精密工学会誌, 53, 7(1987)1027.
• 5) 土屋八郎, 後藤英和, 森 勇蔵, 広瀬喜久治, 遠藤勝義, 山内和人, 宮崎 真, 西 雅文 : CO₂レーザによるSiおよびSi₃N₄表面酸化反応層の形成と表面層の除去機構, 精密工学会誌53, 11(1987)1765.

Terms in the title (4)： Si ,  ハロゲン ,  ガス分子 ,  分解過程