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J-GLOBAL ID：200902109946747452   Reference number：00A0692964

Fundamental Studies of Fluoropolymer Photoresists for 157 nm Lithography.

157nmリソグラフィー用ふっ素樹脂フォトレジストの基礎研究

Author (6)： SCHMALJOHANN D (Cornell Univ., NY, USA) ,  BAE Y C (Cornell Univ., NY, USA) ,  DAI J (Cornell Univ., NY, USA) ,  WEIBEL G L (Cornell Univ., NY, USA) ,  HAMAD A H (Cornell Univ., NY, USA) ,  OBER C K (Cornell Univ., NY, USA)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 13  Issue： 3  Page： 451-458  Publication year： 2000 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *photoresist ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Halogen containing polymers  (YH07100Z)

Substance index (4)： Acetic acid vinyl ester ,  3,4-Dihydro-2H-pyran ,  1-(Trifluoromethyl)vinyl acetate ,  Hexafluoroacetone

Reference (18)：

• 1). R. R. Kunz, T. M. Bloomstein, D. E. Hardy, R. B. Goodman, D. K. Downs and J. E. Curtin, J. Vac. Sci. Technol. B, 17 (1999) 3267.
• 2). K. J. Przybilla, H. Röschert and G. Pawlowski, Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng., 1672 (1992) 500.
• 3). H. Ito, N. Seehof and R. Sato, Polym. Mater. Sci. Eng., 77 (1997) 449.
• 4). H. Ito, N. Seehof, R. Sato, T. Nakayama and M. Ueda, ACS Symp. Ser., 706 (1998) 449.
• 5). D. Schmaljohann, Y. C. Bae, G. L. Weibel, A. H. Hamad, C. K. Ober Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng., (2000), in press.

Terms in the title (5)： リソグラフィー ,  ふっ素樹脂 ,  フォトレジスト ,  基礎 ,  研究