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J-GLOBAL ID：200902117518145173   Reference number：02A0435854

Orientation Control of Niobium Nitride Thin Films by Ion Beam Assisted Deposition.

イオンビームアシスト蒸着法による窒化ニオブ薄膜の配向制御

Author (4)： GOTO YASUHITO (京大 大学院工学研究科) ,  KITAI HIDENORI (京大 大学院工学研究科) ,  TSUJI HIROSHI (京大 大学院工学研究科) ,  ISHIKAWA JUNZO (京大 大学院工学研究科)
Material： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
Volume： 45  Issue： 3  Page： 215-218  Publication year： Mar. 20, 2002 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： nitride ,...
Semi thesaurus term： negative electrode ,...

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Electron emission in general  (BM09010H)

Reference (7)：

• TOTH, L. E. Transition Metal Carbides and Nitrides. 1971
• 後藤康仁. 真空. 1999, 42, 305
• 後藤康仁. 真空. 1999, 42, 309
• 後藤康仁. 真空. 2000, 43, 251
• ROSSNAGEL, S. M. J. J. Cuomo, Vacuum. 1988, 38, 73

Terms in the title (4)： イオンビームアシスト蒸着 ,  窒化ニオブ ,  薄膜 ,  配向制御