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J-GLOBAL ID：200902143036208209   Reference number：99A0991402

Ruthenium Films Prepared by Liquid Source Chemical Vapor Deposition Using Bis-(ethylcyclopentadienyl)ruthenium.

ビス-エチルシクロペンタジエニルルテニウムを用いた液体源化学蒸着により作製したルテニウム薄膜

Author (2)： AOYAMA T (Toshiba Corp., Yokohama, JPN) ,  EGUCHI K (Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 38  Issue： 10A  Page： L1134-L1136  Publication year： Oct. 01, 1999 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： cyclopentadienyl complex ,...

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JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Reference (13)：

• 1) T. Aoyama, S. Saida, Y. Okayama, M. Fujisaki, K. Imai and T. Arikado: J. Electrochem. Soc. 143 (1996) 977.
• 2) H. Yamaguchi et al.: `96 IEEE IEDM Tech. Dig. (IEEE, Piscataway, 1996) p. 675.
• 3) A. Yuuki, M. Yamamuka, T. Makita, T. Horikawa, T. Shibano, N. Hirano, H. Maeda, N. Mikami, K. Ono, H. Ogata and H. Abe: `95 IEEE IEDM Tech. Dig. (IEEE, Piscataway, 1995) p. 115.
• 4) T. Aoyama, S. Yamazaki and K. Imai: J. Electrochem. Soc. 145 (1998) 2961.
• 5) T. Aoyama, A. Murakoshi and K. Imai: Jpn. J. Appl. Phys. 37 (1998) 5701.

Terms in the title (6)： ビス ,  液体源 ,  化学蒸着 ,  作製 ,  ルテニウム ,  薄膜