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J-GLOBAL ID：200902151496739175   Reference number：02A0191162

Electron Cyclotron Resonance-Reactive Ion Beam Etching of InP by Cyclic Injection of CH₄/H₂/Ar and O₂.

CH₄/H₂/ArおよびO₂の周期的注入による,InPの電子サイクロトロン共鳴反応性イオンビームエッチング

Author (5)： SUZUKI T (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  HANEJI N (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  TADA K (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  SHIMOGAKI Y (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  NAKANO Y (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 41  Issue： 1  Page： 15-19  Publication year： Jan. 15, 2002 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *RIE ,...
Semi thesaurus term： アッシンク

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Irradiational changes semiconductors  (BK16123E)

Substance index (1)： Methane

Reference (6)：

• 1) J. E. Schramm, D. I. Babic, E. L. Hu, J. E. Bowers and J. L. Merz: J. Vac. Sci. & Technol. B <B>15</B> (1997) 2031.
• 2) H. Hatate, M. Hashimoto, H. Shirakawa, Y. Fujiwara, Y. Takeda, H. Nakano, T. Tatsuta and O. Tsuji: Jpn. J. Appl. Phys. 37 (1998) 7172.
• 3) Y. Yuan, T. Brock, P. Bhattacharya, C. Caneau and R. Bhat: IEEE Photonics Technol. Lett. 9 (1997) 881.
• 4) M. Yuda, S. Kondo, Y. Noguchi and K. Kishi: Jpn. J. Appl. Phys. 37 (1998) 4624.
• 5) M. Nakano, S. Oku, T. Tamamura, K. Yasui and H. Masuda: Jpn. J. Appl. Phys. 38 (1999) 1052.

Terms in the title (7)： H2 ,  Ar ,  O2 ,  注入 ,  InP ,  電子サイクロトロン共鳴 ,  反応性イオンビームエッチング