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J-GLOBAL ID：200902154622006749   Reference number：02A0625590

Uniformity in Patterns Imprinted Using Photo-Curable Liquid Polymer.

光硬化可能液体ポリマーを用いてインプリントされたパターンの均一性

Author (6)： HIROSHIMA H (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  INOUE S (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  KASAHARA N (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  TANIGUCHI J (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  MIYAMOTO I (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  KOMURO M (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 41  Issue： 6B  Page： 4173-4177  Publication year： Jun. 30, 2002 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *lithography ,...
Semi thesaurus term： photocrosslinking ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (10)：

• 1) S. Y. Chou, P. R. Krauss and P. J. Renstorm: Appl. Phys. Lett. 67 (1995) 3114.
• 2) S. Y. Chou, P. R. Krauss, W. Zhang, L. Guo and L. Zhuang: J. Vac. Sci. Technol. B15 (1997) 2897.
• 3) L. Guo, P. R. Krauss and S. Y. Chou: Appl. Phys. Lett. 71 (1997) 1881.
• 4) P. R. Krauss and S. Y. Chou: Appl. Phys. Lett. 71 (1997) 3174.
• 5) Z. Yu, S. J. Schablitsky and S. Y. Chou: Appl. Phys. Lett. 74 (1999) 2381.

Terms in the title (3)： 光硬化 ,  ポリマー ,  均一性