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J-GLOBAL ID：200902170780905420   Reference number：01A1078708

Measurement of Nano-fine Particles on Si Wafer Surface by Laser Light Scattering Method.

レーザ光散乱法によるSiウエハ表面上のナノパーティクルの計測

Author (7)： SASAKI SATOSHI (大阪電通大 大学院) ,  AN HIROSHI (大阪電通大 工) ,  MORI YUZO (大阪大 大学院) ,  KATAOKA TOSHIHIKO (大阪大 大学院) ,  ENDO KATSUYOSHI (大阪大 大学院) ,  YAMAUCHI KAZUTO (大阪大 大学院) ,  INOUE HARUYUKI (大阪大 大学院)
Material： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
Volume： 67  Issue： 11  Page： 1818-1823  Publication year： Nov. 05, 2001 
JST Material Number： F0268A  ISSN： 0912-0289  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *wafer ,...

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JST classification (1)： Measurement,testing and reliability of solid-state devices  (NC03040G)

Reference (6)：

• 森勇藏. 光散乱法によるナノメータオーダーの粒径測定法の開発. 精密工学会誌. 1988, 54,11, 2132
• 森勇藏. 光散乱によるナノメータオーダーの粒径測定法の開発(第2報)-シリコンウエハ表面付着微粒子の測定-. 精密工学会誌. 1990, 56,10, 1847
• 森勇藏. 光散乱によるナノメータオーダーの粒径測定法の開発(第3報)-標準微粒子による粒径測定法の評価-. 精密工学会誌. 1993, 59,7, 1121
• HIROSHI, A. N. A New Apparatus for Measuring Particle Sizes of the Order of Nanometer, (2nd Report) -Evaluation of Measuring System by using Standard Particles. int. J. JSPE. 1994, 28,4, 356-361
• 安弘. 光散乱法によるナノメータオーダーの粒経測定法の開発(第4報)-光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法-. 精密工学会誌. 1996, 62,8, 1198-1202

Terms in the title (5)： レーザ ,  光散乱法 ,  Siウエハ ,  ナノパーティクル ,  計測