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J-GLOBAL ID：200902205852158274   Reference number：03A0329365

Dependence of Sputtering Gas Pressure on the Properties for Fe Thin Films using RF Magnetron Sputtering with Multipolar Magnetic Plasma Confinement

多重磁極形高周波マグネトロンスパッタ法によるFe薄膜のスパッタガス圧力依存性

Author (5)： HARADA MASAHIRO (広島工大 工) ,  KAWAI KATSUHIRO (広島工大 工) ,  TANAKA TAKESHI (広島工大 工) ,  KAWABATA KEISHI (広島工大 工) ,  KAJIOKA HIDESHI (広島県西部工技セ)
Material： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
Volume： 46  Issue： 3  Page： 241-244  Publication year： Mar. 20, 2003 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *Iron ,...
Semi thesaurus term： *pressure dependence

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JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Reference (8)：

• 北田正弘. 金属. 1990, 60, 34
• 佐藤勇武. 真空. 2001, 44, 726
• KOMURO, M. J. Appl. Phys. 1990, 67, 5126
• MURET, P. J. Vac. Sci. Technol. 1998, B16, 1663
• TANAKA, T. J. Vac. Sci. Technol. 2000, A18, 1649

Terms in the title (7)： 多重 ,  磁極 ,  高周波マグネトロンスパッタ法 ,  Fe ,  薄膜 ,  スパッタガス ,  圧力依存性