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J-GLOBAL ID：200902261682040246   Reference number：06A0204888

Preparation of Amorphous Fluorinated Carbon Film Using Low Global-Warming Potential Gas, C₄F₆, by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

プラズマ増強化学蒸着による低地球温暖化能力ガスC₄F₆を用いた非晶質ふっ化炭素薄膜の作製

Author (5)： WATANABE Hiroki (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  TOKIMITSU Takumi (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  SHIGA Jyunko (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  HANEJI Nobuo (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  SHIMOGAKI Yukihiro (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 45  Issue： 4-7  Page： L151-L153  Publication year： Feb. 25, 2006 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： plasma CVD ,...

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Reference (25)：

• International Technology Roadmap for Semiconductors. 5
• UERA, K. Jpn. J. Appl. Phys. 2004, 43, 504
• TAKADA, S. Jpn. J. Appl. Phys. 2004, 43, 2453
• MIYOSHI, H. Jpn. J. Appl. Phys. 2005, 44, 1161
• YONEKURA, K. Jpn. J. Appl. Phys. 2005, 44, 2976

Terms in the title (7)： プラズマ増強化学蒸着 ,  地球温暖化 ,  能力 ,  非晶質 ,  ふっ化炭素 ,  薄膜 ,  作製