Art

J-GLOBAL ID：200902277314952069   Reference number：09A0735552

Novel Noria (Water Wheel-Like Cyclic Oligomer) Derivative as a Chemically Amplified Extreme Ultraviolet (EUV)-Resist Material

化学増幅極端紫外線(EUV)レジスト材料としての新しいノリア(水車様環状オリゴマ)誘導体

Author (5)： NISHIKUBO Tadatomi (Kanagawa Univ., Yokohama, JPN) ,  KUDO Hiroto (Kanagawa Univ., Yokohama, JPN) ,  SUYAMA Yuji (Kanagawa Univ., Yokohama, JPN) ,  OIZUMI Hiroaki (Semiconductor Leading Edge technol., Inc., Ibaraki, JPN) ,  ITANI Toshiro (Semiconductor Leading Edge technol., Inc., Ibaraki, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 22  Issue： 1  Page： 73-76  Publication year： 2009 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemically amplified resist ,  *photoresist ,  oligomer ,  ring structure ,  extreme ultraviolet ,  *macrocyclic compound ,  solubility (ratio) ,  semiconductor thin film ,  thermal stability ,  pattern formation ,  bridged compound ,  *polyphenol ,  alicyclic compound ,  film-forming performance ,  carboxylate (ester)

JST classification (2)： Aromatic monocyclic phenols and polyphenols  (CF05090V) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (1)： Chloroacetic acid 2-methyl-2-adamantyl ester

Reference (18)：

• For example: Reviews:(a) A. M. Goethals, G Vandenberghe, I. Pollentier, M. Ercken, P. De. Bisschop, M. Maenhoudt, K. Ronse, J. Photopolym. Sci. Technol., 14, 333(2001).(b) H. Ito, J. Polym. Sci. Part A: Polym. Chem., 41, 3863(2003).
• For example:(a) S. A. MacDonald, C. G. Willson, J. M. J. Frechet, Acc. Chem. Res., 27, 151(1994).(b) C. G Willson, B. C. Trinque, B. P. Osborn, C. Chambers, R. Y. Hedieh, T. Chiba, P. Zimmerma, D. Miller, W. Conley, J. Photopolym. Sci. Tecnol., 15, 583(2002).(c) C. K. Ober, K. Douki, V. R. Vohra, Y. Kwark, X. Liu, W. Conley, D. Miller, P. Zimmerman, J. Photopolym. Sci., Technol., 15, 603(2002).(d) H. Ito, G M. Wallraff, N. Fender, P. J. Brock, C. E. Larson, H. D. Truong, G. Breyta, D. Miller, M. Sherwood, R. D. Allen, J. Photopolym. Sci. Technol., 15, 693(2002).(e) Z. M. Fresco, N. Bensel, I. Suez, S. A. Backer, J. M. J. Frechet, J. Photopolym. Sci. Technol., 16, 27(2003).
• For example, C. G. Willson, H. Ito, J. M. J. Frechet, T. G. Tessier, F. M. Houlihan, J. Electrochem. Soc., 133, 181(1986).
• For example. Development and Application of Extreme Ultraviolet Light Source, K. Toyota, S. Okazaki. Eds.; CMC: Tokyo,(2007).
• J. Dai, S. W. Chang, A. Hamad, D. Yang, N. Felix, C. K. Ober, Chem. Mater., 18, 3404(2006).

Terms in the title (8)： 化学 ,  増幅 ,  極端紫外線 ,  EUV ,  レジスト材料 ,  ノリア ,  水車様環状オリゴマ ,  誘導体