フォーカスモニタ方法及び露光装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001090774
Publication number (International publication number)：2002289503
Application date： Mar. 27, 2001
Publication date： Oct. 04, 2002
Summary：

【要約】【課題】フォーカスモニタのために特別なマスクを用いることなく、投影光学系によるフォーカスを高い感度で精度良く測定する。【解決手段】電子線によって照明されたマスク上のフォーカスモニタ用パターンを投影光学系によって被露光基板上に転写し、該基板上のパターンを測定することによって実効的なフォーカスをモニタするフォーカスモニタ方法であって、フォーカスモニタ用パターンを2種類のパターン群A,Bで構成し、パターン群Aを照明光源の重心が軸はずれの状態での照明光によって照明し、パターン群Bを照明光源の重心が軸上に存在する通常の照明状態での照明光によって照明し、基板上に転写されたパターン群Aとパターン群Bとの相対的な位置を測定することによってフォーカスをモニタする。

Claim (excerpt)：

電磁波又は電子線によって照明されたマスク上のフォーカスモニタ用パターンを投影光学系によって被露光基板上に転写し、該基板上のパターンを測定することによって実効的なフォーカスをモニタするフォーカスモニタ方法であって、前記フォーカスモニタ用パターンは少なくとも2種類のパターン群からなり、その一方のパターン群Aを照明光源の重心が軸はずれの状態での照明光によって照明し、残りのパターン群Bを照明光源の重心が軸上に存在する通常の照明状態での照明光によって照明し、前記基板上に転写されたパターン群Aとパターン群Bとの相対的な位置を測定することを特徴とするフォーカスモニタ方法。

IPC (5)：

H01L 21/027 , G01B 11/00 , G03F 1/08 , G03F 7/207 , G01B 15/00

FI (6)：

G01B 11/00 C , G03F 1/08 P , G03F 7/207 H , G01B 15/00 B , H01L 21/30 526 Z , H01L 21/30 541 F

F-Term (22)：

2F065AA14 , 2F065BB13 , 2F065CC20 , 2F065LL42 , 2F067AA03 , 2F067AA13 , 2F067BB01 , 2F067BB04 , 2F067CC16 , 2F067EE04 , 2F067HH01 , 2F067HH06 , 2H095BE05 , 2H095BE08 , 2H095BE09 , 5F046CB17 , 5F046CB25 , 5F046DA14 , 5F046DB05 , 5F056BA08 , 5F056CB32 , 5F056EA05

Patent cited by the Patent：

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