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J-GLOBAL ID:200903000182909195

研磨剤の回収再利用方法および装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 柳原 成
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996276643
Publication number (International publication number):1998118899
Application date: Oct. 18, 1996
Publication date: May. 12, 1998
Summary:
【要約】【課題】 濾過器により粗大不純物を除去し、限外濾過膜により濃縮するようにして、急速な目詰まりを生じることなく、研磨屑等の粗大な不純物を除去し、連続的に研磨剤を回収できる研磨剤の回収再利用方法および装置を得る。【解決手段】 研磨装置1において無機酸化物微粒子を含む研磨剤4を用いて半導体基板またはその上に形成された被膜の研磨を行う際排出される研磨廃液23を被処理液槽に受け入れ、濾過器12a、12bにより粗大不純物を除去し、濃縮液槽13から孔径2〜100nmのUF膜22を有する限外濾過器14において濃縮し、濃縮液は回収研磨剤6として研磨に再利用し、透過液は純水製造装置16において処理し、純水または超純水として回収する。
Claim (excerpt):
半導体基板あるいはその上に形成された被膜の化学機械研磨を行った後の研磨廃液を、濾過器で全量濾過して粗大不純物を濾過器に捕捉して除去し、該濾過液を孔径2〜100nmの限外濾過膜からなる限外濾過器に循環させて濃縮し、該濃縮液を研磨剤として回収して再利用することを特徴とする研磨剤の回収再利用方法。
IPC (3):
B24B 1/00 ,  B01D 61/14 500 ,  H01L 21/304 321
FI (3):
B24B 1/00 A ,  B01D 61/14 500 ,  H01L 21/304 321 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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