Pat
J-GLOBAL ID:200903000182909195
研磨剤の回収再利用方法および装置
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
柳原 成
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996276643
Publication number (International publication number):1998118899
Application date: Oct. 18, 1996
Publication date: May. 12, 1998
Summary:
【要約】【課題】 濾過器により粗大不純物を除去し、限外濾過膜により濃縮するようにして、急速な目詰まりを生じることなく、研磨屑等の粗大な不純物を除去し、連続的に研磨剤を回収できる研磨剤の回収再利用方法および装置を得る。【解決手段】 研磨装置1において無機酸化物微粒子を含む研磨剤4を用いて半導体基板またはその上に形成された被膜の研磨を行う際排出される研磨廃液23を被処理液槽に受け入れ、濾過器12a、12bにより粗大不純物を除去し、濃縮液槽13から孔径2〜100nmのUF膜22を有する限外濾過器14において濃縮し、濃縮液は回収研磨剤6として研磨に再利用し、透過液は純水製造装置16において処理し、純水または超純水として回収する。
Claim (excerpt):
半導体基板あるいはその上に形成された被膜の化学機械研磨を行った後の研磨廃液を、濾過器で全量濾過して粗大不純物を濾過器に捕捉して除去し、該濾過液を孔径2〜100nmの限外濾過膜からなる限外濾過器に循環させて濃縮し、該濃縮液を研磨剤として回収して再利用することを特徴とする研磨剤の回収再利用方法。
IPC (3):
B24B 1/00
, B01D 61/14 500
, H01L 21/304 321
FI (3):
B24B 1/00 A
, B01D 61/14 500
, H01L 21/304 321 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
-
研磨剤粒子の回収方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-249851
Applicant:栗田工業株式会社, 日本電気株式会社
-
特開昭62-083086
-
特開昭62-083086
-
特開平2-157006
-
特開平2-157006
-
研磨装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-044160
Applicant:株式会社東芝
-
ケミカルメカニカルポリッシング液の再生方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-115555
Applicant:旭化成工業株式会社
-
流出油の回収装置および回収方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-137244
Applicant:建設省関東地方建設局長, 三菱マテリアル株式会社
-
膜分離によるマンガン除去方法及びそのための装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-297919
Applicant:神鋼パンテツク株式会社
Show all
Return to Previous Page