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J-GLOBAL ID:200903000893603030

薄膜トランジスタの製造方法および薄膜トランジスタならびに表示装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 船橋 國則
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006135995
Publication number (International publication number):2007311377
Application date: May. 16, 2006
Publication date: Nov. 29, 2007
Summary:
【課題】本発明は、量産に適し、低コストで製造可能な薄膜トランジスタの製造方法および薄膜トランジスタならびにこれを用いた表示装置を提供する。【解決手段】基板11上に有機半導体層14、ゲート絶縁膜15、ゲート電極16をこの順に積層してなる薄膜トランジスタ10の製造方法において、印刷法により、ゲート絶縁膜15上にゲート電極材料をパターン塗布する工程と、熱処理を行うことで、パターン塗布されたゲート電極材料を乾燥固化してなるゲート電極16を形成することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法および薄膜トランジスタならびにこの薄膜トランジスタを用いた表示装置である。【選択図】図1
Claim (excerpt):
基板上に有機半導体層、ゲート絶縁膜およびゲート電極をこの順に積層してなる薄膜トランジスタの製造方法において、 印刷法により、前記ゲート絶縁膜上にゲート電極材料をパターン塗布する工程と、 熱処理を行うことで、パターン塗布された前記ゲート電極材料を乾燥固化してなる前記ゲート電極を形成する工程とを有する ことを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。
IPC (6):
H01L 29/786 ,  H01L 51/05 ,  H01L 29/423 ,  H01L 29/49 ,  H01L 21/288 ,  G02F 1/136
FI (8):
H01L29/78 617J ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 617T ,  H01L29/78 617U ,  H01L29/28 100A ,  H01L29/58 G ,  H01L21/288 Z ,  G02F1/1368
F-Term (71):
2H092GA29 ,  2H092JA25 ,  2H092JA36 ,  2H092JA46 ,  2H092JB69 ,  2H092KA09 ,  2H092KA11 ,  2H092KA13 ,  2H092KA18 ,  2H092KB11 ,  2H092KB25 ,  2H092MA05 ,  2H092MA10 ,  2H092MA13 ,  2H092MA37 ,  2H092NA21 ,  2H092NA22 ,  2H092NA27 ,  4M104AA09 ,  4M104AA10 ,  4M104BB06 ,  4M104BB07 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104BB36 ,  4M104CC05 ,  4M104DD51 ,  4M104DD78 ,  4M104GG09 ,  4M104GG10 ,  4M104GG14 ,  5F058AB06 ,  5F058AB07 ,  5F058AC05 ,  5F058AC10 ,  5F058AD06 ,  5F058AD09 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AG07 ,  5F058AH01 ,  5F110AA05 ,  5F110AA09 ,  5F110AA16 ,  5F110BB01 ,  5F110CC01 ,  5F110CC05 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD12 ,  5F110EE01 ,  5F110EE02 ,  5F110EE42 ,  5F110FF01 ,  5F110FF09 ,  5F110FF27 ,  5F110FF36 ,  5F110GG05 ,  5F110GG25 ,  5F110GG42 ,  5F110HK01 ,  5F110HK02 ,  5F110HK32 ,  5F110HL02 ,  5F110HL22 ,  5F110NN02 ,  5F110NN27 ,  5F110NN33 ,  5F110NN73 ,  5F110QQ02 ,  5F110QQ06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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