ポジ型レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小栗昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001209543
Publication number (International publication number)：2002090987
Application date： Jul. 10, 2001
Publication date： Mar. 27, 2002
Summary：

【要約】【課題】パターンのエッジラフネスが改良され、現像欠陥の問題も改善された、優れたレジストパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)特定の窒素含有部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)下記一般式(I)で表される部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物【化1】を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (16)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CC20 , 2H025FA10 , 2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-136918 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-099274 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ネガ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-065598 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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Cited by examiner (6)

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-136918 Applicant：富士写真フイルム株式会社
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