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J-GLOBAL ID：200903002245835637

露光システムおよび半導体装置の製造方法

Inventor：
西野 勝裕

About 西野 勝裕

, 
吉田 孝継

About 吉田 孝継


Applicant, Patent owner：
パナソニック株式会社

About パナソニック株式会社


Agent (1)： 福井 豊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007238981
Publication number (International publication number)：2009071103
Application date： Sep. 14, 2007
Publication date： Apr. 02, 2009
Summary：
【課題】ウエーハに対する露光処理をロット単位で行う際に、スループットを低下させることなく、ウエーハごとにフォーカスをベストフォーカスに最適化して露光することができる露光システムおよび半導体装置の製造方法を提供する。【解決手段】レチクルステージ2上に配置した複数の空間像マーク4a〜4cが配列された空間像マーク体4を露光し、ウエーハステージ15上に配置した空間像投影板6に縮小投影レンズ5を介して空間像マーク体4の像を投影する。空間像投影板6上における各空間像マークの像の投影位置には、光軸方向の位置が異なる空間像開口6a〜6cが設けられている。各空間像開口6a〜6cを通じて各空間像マークの像の光強度をそれぞれ計測することで、ウエーハステージ15を光軸方向に移動させることなく一度の露光でフォーカス曲線を取得することができ、ベストフォーカス位置を算出することができる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
レチクルステージに載置されるレチクルに形成されたパターンを、ウエーハステージに載置される感光性樹脂膜が形成された基板に投影レンズを介して投影する露光システムであって、 露光光を照射する露光光源と前記投影レンズとの間に配置された、複数の空間像マークが配列された空間像マーク体と、 ウエーハステージの基板載置面に対して傾斜する主面を有し、前記投影レンズを介して複数の空間像マークの像が投影される空間像投影板と、 前記空間像投影板に投影された各空間像マークの像の光強度をそれぞれ検出する検出器と、 を備えたことを特徴とする露光システム。
IPC (1)：
H01L 21/027
FI (1)：
H01L21/30 526A
F-Term (5)：
5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB01 ,  5F046DC12
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (7)
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