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J-GLOBAL ID:200903002421836505
フォイル・トラップを備えたレーザー生成プラズマ放射システム
Inventor:
,
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Applicant, Patent owner:
Agent (4):
浅村 皓
, 浅村 肇
, 岩本 行夫
, 吉田 裕
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004187221
Publication number (International publication number):2005020006
Application date: Jun. 25, 2004
Publication date: Jan. 20, 2005
Summary:
【課題】光源から生じる放射がフォイル・トラップを2度通過するように、垂直入射コレクタなどのコレクタと(プラズマ)光源の間にフォイル・トラップを有する放射システムを提供すること。【解決手段】放射がフォイル・トラップを通過するのは、1度はコレクタに当たる前、2度目はコレクタによって反射された後である。この構成は、これまで不可能であると考えられていた。フォイル・トラップが光源から生じる放射とコレクタに反射された放射の両方に平行な薄板を有するため、放射がフォイル・トラップによって遮られることはない。このようにして、プラズマによって生成される放射源と共に使用する垂直入射コレクタを、EUV源から生じる破片から保護することができる。【選択図】図2
Claim (excerpt):
放射源(32)と、
前記放射源(32)から生じる放射を集めるためのコレクタ(22)と、
前記放射源(32)から生じる汚染粒子を捕らえるための汚染バリア(24)であって、フォイル・トラップが、前記放射源(32)から生じる放射(34)を通過するように前記放射源(32)と前記コレクタ(22)の間に配置される汚染バリア(24)と
を有する放射の投影ビームを提供するための放射システム(20)において、
前記コレクタ(22)が、前記コレクタによって反射された放射(36)が前記汚染バリア(24)を通過するように構成され、前記汚染バリアが前記反射された放射(36)の伝播方向に平行なそれぞれの面内に配置された複数の薄板(44、51)を有することを特徴とする放射システム(20)。
IPC (6):
H01L21/027
, G03F7/20
, G21K1/00
, G21K1/06
, G21K5/02
, H05H1/24
FI (7):
H01L21/30 531A
, G03F7/20 503
, G21K1/00 X
, G21K1/06 B
, G21K1/06 M
, G21K5/02 X
, H05H1/24
F-Term (6):
2H097BA04
, 2H097BA10
, 2H097CA15
, 5F046GA20
, 5F046GB09
, 5F046GC05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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X線光源用デブリ除去装置及び、デブリ除去装置を用いた露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-205319
Applicant:キヤノン株式会社
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多層膜X線反射鏡およびそれを用いたレーザープラズマX線発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-078336
Applicant:エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社, 望月孝晏
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デブリ除去装置、光源及び露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-003939
Applicant:株式会社ニコン
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X線発生装置及びこれを備えた投影露光装置及び露光方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-231394
Applicant:株式会社ニコン
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X線発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-042553
Applicant:株式会社ニコン
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EUV光源用コレクタ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2006-509850
Applicant:サイマーインコーポレイテッド
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X線発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-339925
Applicant:キヤノン株式会社
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レーザプラズマX線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-024731
Applicant:株式会社日立製作所
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