塗布、現像装置及びその方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：井上俊夫 , 水野洋美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005069723
Publication number (International publication number)：2006253501
Application date： Mar. 11, 2005
Publication date： Sep. 21, 2006
Summary：

【課題】レジスト膜の上下に反射防止膜を形成するにあたり、反射防止膜を形成する場合、しない場合のいずれにも対応することができ、省スペース化を図ること。【解決手段】処理ブロックS2に、3層の塗布膜形成用の単位ブロックB3〜B5と、2層の現像処理用の単位ブロックB1,B2とを互いに積層して設ける。前記塗布膜形成用の単位ブロックB3〜B5の夫々には、レジスト膜の下方側又は上方側の反射防止膜を形成する第1又は第2の反射防止膜ユニット31,33と、塗布ユニット32とが設けられているので、レジスト膜の上下に反射防止膜を形成するにあたり、省スペース化を図ることができ、また反射防止膜を形成する場合、しない場合のいずれにも対応することができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

キャリアブロックにキャリアにより搬入された基板を処理ブロックに受け渡し、この処理ブロックにてレジスト膜を含む塗布膜を形成した後、インターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロックを介して戻ってきた露光後の基板を前記処理ブロックにて現像処理して前記キャリアブロックに受け渡す塗布、現像装置において、 a)前記処理ブロックは、互いに積層された複数の塗布膜形成用の単位ブロックと、前記塗布膜形成用の単位ブロックに対して積層された現像処理用の単位ブロックと、を備え、 b)前記各単位ブロックは、薬液を基板に塗布するための液処理ユニットと、基板を加熱する加熱ユニットと、基板を冷却する冷却ユニットと、これらユニット間で基板を搬送する単位ブロック用の搬送手段と、を備え、 c)前記互いに積層された複数の塗布膜形成用の単位ブロックに設けられる液処理ユニットは、基板にレジスト液を塗布するための塗布ユニットと、レジスト液を塗布する前に基板に反射防止膜用の薬液を塗布するための第1の反射防止膜ユニットと、レジスト液を塗布した後に基板に反射防止膜用の薬液を塗布するための第2の反射防止膜ユニットとを含み、塗布膜形成用の単位ブロックでは、単位ブロック単位で、基板に対してレジスト膜を含む塗布膜の形成が行なわれることを特徴とする塗布、現像装置。

IPC (1)：

H01L 21/027

FI (4)：

H01L21/30 562 , H01L21/30 563 , H01L21/30 574 , H01L21/30 565

F-Term (6)：

5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046HA03 , 5F046JA22 , 5F046PA01 , 5F046PA12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

基板処理システム及び塗布、現像装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-397558 Applicant：東京エレクトロン株式会社
特許第3337677号公報
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-379782 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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Cited by examiner (5)

基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-379782 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-143424 Applicant：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-103101 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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